| 講演名 | 1999/1/21 MgOの2次電子放出係数測定 石本 学, 日高 総一郎, 別井 圭一, 篠田 傳, |
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| 抄録(和) | AC-PDPの保護膜として用いられているMgOについて、2次電子放出係数(γ)測定装置を構築し、測定を行った。くり返しの測定精度、時間安定性とも測定ばらつき5%以内に収まった。この系を用い、金属(銅)およびMgOの2次電子放出特性を測定した。CuとMgOの2次電子放出特性の差から、金属と絶縁物の2次電子放出の違いについて述べる。また、イオン加速電圧とγ、加熱活性化とγの関係を測定した。更に、2次電子放出メカニズムを解明するため、2次電子放出のエネルギー分布の測定を行い、金属と、絶縁物の分布の差異、分布に対する表面電位の影響を議論する。 |
| 抄録(英) | We successfully measured the secondary electron emission yield(γ)of MgO thin films for protecting layer of AC-PDP. We made the measurement apparatus with which we could measure the γ in high stability. The variation of repeating measurement and the long-time(1 hour)measurement were within 5%. With this apparatus, we measured the heat treatment effect on γ, and the relationship between γ and the acceleration voltage of induced ion. And we also measured the energy distribution of secondary electrons from metal(copper)and MgO to investigate the electron emission process. We investigated the difference of the distribution between the metal and non-conductive material, and we discuss the surface charge effect on the distribution. |
| キーワード(和) | MgO / AC-PDP / γ / 保護膜 / 2次電子 |
| キーワード(英) | MgO / AC-PDP / γ / protecting layer / secondary electron |
| 資料番号 | EID98-107 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 1999/1/21(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | MgOの2次電子放出係数測定 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Analysis of secondary electron emission yield of MgO thin films |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | MgO / MgO |
| キーワード(2)（和/英） | AC-PDP / AC-PDP |
| キーワード(3)（和/英） | γ / γ |
| キーワード(4)（和/英） | 保護膜 / protecting layer |
| キーワード(5)（和/英） | 2次電子 / secondary electron |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 石本 学 / Manabu Ishimoto |
| 第 1 著者 所属（和/英） | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories LTD. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 日高 総一郎 / Souichiro Hidaka |
| 第 2 著者 所属（和/英） | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories LTD. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 別井 圭一 / Keiichi Betsui |
| 第 3 著者 所属（和/英） | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories LTD. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 篠田 傳 / Tutae Shinoda |
| 第 4 著者 所属（和/英） | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories LTD. |
| 発表年月日 | 1999/1/21 |
| 資料番号 | EID98-107 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 549 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |