| 講演名 | 1999/1/21 MgO保護膜評価装置の開発 阿川 義昭, 山本 佳宏, 天野 繁, 佐々木 徳康, 湯山 純平, |
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| 抄録(和) | 現在、膜からの2次電子放出収量(γ値)を測定するための装置を開発中である。このMgO保護膜評価装置はイオン源から数10keVのエネルギーにおいて引き出し、質量分離したビームを50～1000eVに減速して被測定試料基板に照射し、放出される2次電子を計測する。S/N比向上のため、試料以外で発生する電子を抑制し、系内を10^<-7>Pa以下の圧力に保つ。本機の開発に先立ち、既存の低エネルギーイオン照射装置を用い、XeイオンによるWおよびMgO膜のγ値を測定した。MgO膜はステンレス基板上に蒸着した配向性の異なる2種類の試料について測定を行った。Wのγ値は100～1000eVのエネルギー範囲においてほぼ一定で、0.02を得た。MgO膜のγ値はエネルギー依存性を示し、また、配向性による変化が認められた。 |
| 抄録(英) | We are developing a system which measures the secondary electron yield(γ-value)of MgO films. The γ-value is determined by measuring the secondary electron current ejected from the sample irradiated by a mass analyzed ion beam of 50～1000 eV. To improve the S/N ratio the system is designed to suppress electrons generated in the beam transport and to keep the vacuum pressure lower than 10^<-7>Pa. Prior to the construction of this system, we measure γ-values of W and MgO films by Xe ion beam irradiation using an existing low energy ion beam facility. Two kinds of MgO samples were evaporated on stainless steel with different orientations. The obtained γ-value for W is constant over the energy range from 100 to 1000 eV and about 0.02. The γ-value for MgO film showed energy dependence and difference with orientation. |
| キーワード(和) | 2次電子放出量 / MgO膜 / 配向性 |
| キーワード(英) | the secondary electron yield / MgO films / orientation |
| 資料番号 | EID98-104 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 1999/1/21(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | MgO保護膜評価装置の開発 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of a MgO film quality evaluation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 2次電子放出量 / the secondary electron yield |
| キーワード(2)（和/英） | MgO膜 / MgO films |
| キーワード(3)（和/英） | 配向性 / orientation |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 阿川 義昭 / Y. Agawa |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日本真空技術株式会社 ULVAC JAPAN, Ltd. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 山本 佳宏 / Y. Yamamoto |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 日本真空技術株式会社 ULVAC JAPAN, Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 天野 繁 / S. Amano |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 日本真空技術株式会社 ULVAC JAPAN, Ltd. |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 佐々木 徳康 / N. Sasaki |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 日本真空技術株式会社 ULVAC JAPAN, Ltd. |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 湯山 純平 / J. Yuyama |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 日本真空技術株式会社 ULVAC JAPAN, Ltd. |
| 発表年月日 | 1999/1/21 |
| 資料番号 | EID98-104 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 549 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |