| 講演名 | 1994/12/8 1994年IDRC報告 : AMLCDプロセス及び材料 三村 秋男, |
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| 抄録(和) | 1994年IDRCで発表された報告の中から、アクティブマトリクスのプロセス及び材料(session1,2,7)について概要を述べる。AMプロセス関連では、エキシマレーザ及び熱結晶化による多結晶SiTFTプロセス4件、多結晶CdSe TFT1件,AM-LCD配線材料及びプロセス4件、プロセス工程数の幾何学的解析1件、画素欠陥冗長設計法1件を紹介する。AM材料関連では、液晶・配向膜材料3件、カラーフィルタ材料1件を紹介する。この中で、大型基板に対応するレーザ結晶化技術、次世代の主要製品である、大画面高精細TFT-LCDに対応する低抵抗配線関連技術が注目される。 |
| 抄録(英) | This report reviews the papers about the active-matrix LCD process and material technologies(session 1,2,7)in 1994 IDRC.In AM process technologies,poly-Si TFT by using laser and thermal annealing(4 papers),poly-CdSe TFT(1),low-resistance metallization(4),process step analysis(1),pixel defect tolerant design(1)are presented.In material technologies,liquid crystal and alignment materials(3),color filter material(1)are reviewed.The topics are laser crystallization technologies for the large glass substrates and low resistance gate metallization technologies for large area and high resolution AM-LCD. |
| キーワード(和) | IDRC'94 / アクティブマトリクス / 多結晶シリコンTFT / レーザ / 配線材料 / 液晶 材料 |
| キーワード(英) | IDRC'94 / active-matrix / poly-Si TFT / laser / metallization / liquid crystal |
| 資料番号 | EID94-96 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 1994/12/8(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 1994年IDRC報告 : AMLCDプロセス及び材料 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Report on 1994 IDRC : Processes and materials for Active Matrix LCD |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | IDRC'94 / IDRC'94 |
| キーワード(2)（和/英） | アクティブマトリクス / active-matrix |
| キーワード(3)（和/英） | 多結晶シリコンTFT / poly-Si TFT |
| キーワード(4)（和/英） | レーザ / laser |
| キーワード(5)（和/英） | 配線材料 / metallization |
| キーワード(6)（和/英） | 液晶 材料 / liquid crystal |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 三村 秋男 / Akio Mimura |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 日立製作所・日立研究所 Hitachi Research Labratory,Hitachi Ltd. |
| 発表年月日 | 1994/12/8 |
| 資料番号 | EID94-96 |
| 巻番号（vol） | vol.94 |
| 号番号（no） | 382 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |