| 講演名 | 1997/2/14 APPLICATIONS OF CHEMICAL-MECHANICAL-POLISHING PROCESS TO SILICON FIELD EMITTER ARRAY , |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | We have fabricated and characterized silicon field emitter arrays by Chemical-Mechanicai-Polishil1g (CMP) process for a clearly cutted gate electrode that was exactly aligned to the emitter. A very high etching selectivity (> 200:1) between the gate electrode and the dielectric was used for preventing the tip from etching off during the CMP. Furthermore, focusing electrodes were also fabricated by the CMP process. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | EID96-143 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 1997/2/14(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | APPLICATIONS OF CHEMICAL-MECHANICAL-POLISHING PROCESS TO SILICON FIELD EMITTER ARRAY |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Jin Ho Lee |
| 第 1 著者 所属（和/英） | Semiconductor Technology Div., Electronics and Telecommunications Research Institute |
| 発表年月日 | 1997/2/14 |
| 資料番号 | EID96-143 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 518 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | |