| 講演名 | 1997/2/14 POLYCRYSTALLINE SILICON FIELD EMITTER ARRAYS WITH A GATED STRUCTURE , |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | Gated polycrystalline silicon field emitter arrays have been fabricated by using a combined dry and Wet etching technique for tip formation and a photoresist etch-back process for gate opening. The fabricated emitter with a tip radius of ～100Å showed electron emissions at a gate voltage of 45 V, comparable to single crystalline silicon tips processed with a sharpening oxidation. The developed method can be applicable to glass-based field emitter displays with semiconductor IC techno1ogies. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | EID96-142 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 1997/2/14(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | POLYCRYSTALLINE SILICON FIELD EMITTER ARRAYS WITH A GATED STRUCTURE |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Yoon-Ho Song |
| 第 1 著者 所属（和/英） | Semiconductor Division, Electronics and Telecommunications Research Institute |
| 発表年月日 | 1997/2/14 |
| 資料番号 | EID96-142 |
| 巻番号（vol） | vol.96 |
| 号番号（no） | 518 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | |