講演名 1993/4/22
保護膜を施したマイクロストリップ線路の特性解析
山口 省一郎, 厚木 和彦, 季 可人, 山下 栄吉,
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抄録(和) MMIC'sにおいてデバイスや線路を保護するために酸化膜などの保護誘電体膜を施す場合がある。また、基板に多層誘電体膜を形成した多層化MMICも提案されている。このような誘電体膜が線路の特性に影響を与え、それを考慮した解析が必要である。本報告ではMMICの基本線路であるマイクロストリップ線路に、保護膜を施したとき、この伝送特性に与える影響を部分境界積分方程式法に基づいて解析した。この結果、厚さ4μmのストリップ導体に同じ厚さのSi保護膜を施したとき、特性インピーダンスで3%程度、また実効誘電率は8%程度変化することが分かった。
抄録(英) Protective films such as SiO_2 are usually used to the protection of the devices and the transmission lines in monolithic microwave integrated circuits(MMIC′s).And thin polymide films on G aAs substrate are proposed to construct the multi-layered MMIC′s.T hese dielectric films can have a strong influence on the characteristics of the microstrip lines used in MMIC′s,and the inf luence need to be analyzed for the accurate design.In this paper, we present an analysis of the microstrip lines with the protective film on them.The analysis method in the partial-boundary integral equation method.The numerical results demostrate the influence of the protective film on the characteristics of the microstrip lines. As an example of our results,the Si protective film with the same thickness of 4μm as the strip conductor gives influences about 3% on characteristic impedance,and about 8% on effective relative dielectric constant.
キーワード(和) MMIC / マイクロストリップ線路 / 保護膜 / 積分方程式 / 部分境界積分方程式 法
キーワード(英) MMIC / microstrip line / protective film / integral equation / partial boundary integral equation method
資料番号 A・P93-14,SCE93-14,MW93-14
発行日

研究会情報
研究会 AP
開催期間 1993/4/22(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Antennas and Propagation (A・P)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 保護膜を施したマイクロストリップ線路の特性解析
サブタイトル(和)
タイトル(英) Characteristics of Microstrip Lines with Protective Film
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) MMIC / MMIC
キーワード(2)(和/英) マイクロストリップ線路 / microstrip line
キーワード(3)(和/英) 保護膜 / protective film
キーワード(4)(和/英) 積分方程式 / integral equation
キーワード(5)(和/英) 部分境界積分方程式 法 / partial boundary integral equation method
第 1 著者 氏名(和/英) 山口 省一郎 / Shoichiro Yamaguchi
第 1 著者 所属(和/英) 電気通信大学
The University of Electro-communications
第 2 著者 氏名(和/英) 厚木 和彦 / Kazuhiko Atsuki
第 2 著者 所属(和/英) 電気通信大学
The University of Electro-communications
第 3 著者 氏名(和/英) 季 可人 / Karen Li
第 3 著者 所属(和/英) 電気通信大学
The University of Electro-communications
第 4 著者 氏名(和/英) 山下 栄吉 / Eikichi Yamashita
第 4 著者 所属(和/英) 電気通信大学
The University of Electro-communications
発表年月日 1993/4/22
資料番号 A・P93-14,SCE93-14,MW93-14
巻番号(vol) vol.93
号番号(no) 4
ページ範囲 pp.-
ページ数 8
発行日