| 講演名 | 1998/6/16 オプトエレクトロニクス材料へのレーザープロセシング 杉岡 幸次, Jie Zhang, 和田 智之, 田代 英夫, 緑川 克美, |
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| 抄録(和) | 石英ガラスは光エレクトロニクス材料として非常に重要な材料の一つである。本講演では、石英ガラスなどの難加工材料に対するレーザーを用いた二つの新しい精密微細加工技術について述べる。一つは真空紫外レーザー光と紫外レーザー光の多重波長励起効果を利用したものであり、もう一つはレーザー生成プラズマとレーザー光の相互作用を利用したプロセスである。これらのプロセスによって、石英ガラス表面に損傷のほとんどない微細パターンを形成することができた。さらに真空紫外レーザー光による石英ガラスの屈折率制御技術に関しても紹介する。 |
| 抄録(英) | Fused quartz is one of the most important materials for Optoelectronic devices. In the present paper, two novel precision microfabrication techniques of hard materials such as fused quartz using lasers are presented. One of them is VUV-UV multiwavelength excitation process, and another is laser-induced plasma assisted ablation(LPA). Theses processes achieve formation of micropatterns on the fused quartz surface with little damage. Refractive index modification of fused quartz by VUV laser beams is introduced as well. |
| キーワード(和) | 石英ガラス / 真空紫外レーザー / 多重波長励起プロセス / レーザー生成プラズマ支援アブレーション / アブレーション / 屈折率制御 |
| キーワード(英) | Fused quartz / VUV laser / Multiwavelength excitation process / Laser-induced plasma assisted ablation / Ablation / Refractive index modification |
| 資料番号 | LQE98-18 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
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| 開催期間 | 1998/6/16(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | オプトエレクトロニクス材料へのレーザープロセシング |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Laser Processing of Optoelectronic Materials |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 石英ガラス / Fused quartz |
| キーワード(2)（和/英） | 真空紫外レーザー / VUV laser |
| キーワード(3)（和/英） | 多重波長励起プロセス / Multiwavelength excitation process |
| キーワード(4)（和/英） | レーザー生成プラズマ支援アブレーション / Laser-induced plasma assisted ablation |
| キーワード(5)（和/英） | アブレーション / Ablation |
| キーワード(6)（和/英） | 屈折率制御 / Refractive index modification |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 杉岡 幸次 / Koji Sugioka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 理化学研究所 The Institute of Physical and Chemical Research(RIKEN) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | Jie Zhang / Zhang Jie |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 理化学研究所 The Institute of Physical and Chemical Research(RIKEN) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 和田 智之 / Satoshi Wada |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 理化学研究所 The Institute of Physical and Chemical Research(RIKEN) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 田代 英夫 / Hideo Tashiro |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 理化学研究所 The Institute of Physical and Chemical Research(RIKEN) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 緑川 克美 / Katsumi Midorikawa |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 理化学研究所 The Institute of Physical and Chemical Research(RIKEN) |
| 発表年月日 | 1998/6/16 |
| 資料番号 | LQE98-18 |
| 巻番号（vol） | vol.98 |
| 号番号（no） | 109 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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