| 講演名 | 1997/8/21 斜め配向Si厚膜の作製と広開口偏光分離素子への応用 青柳 知行, 伊東 勇, 白石 和男, |
|---|---|
| PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 斜め配向した柱状構造を有するSi厚膜を作製し、大きな偏光分離角を得た。同種の構造に偏光分離作用ががあることは、Ta_2O_5厚膜を用いて確認されているが、偏光分離角が小さく、ルチルや方解石の1.3倍にとどまっている。本報告では、偏光分離角を大きくするため、材料にSiを用いて厚膜を作製した。蒸着粒子の入射角を大きくすることにより、柱の成長角が58°の斜め配向柱状Si厚膜を得た。偏光分離特性を調べた結果、波長1.55μmにおいで20°という大きな値(ルチルや方解石の3.5倍)が得られた。 |
| 抄録(英) | We fabricated Si films composed of slant microcolumns, and have obtained much larger beam-splitting angles. Previously, we fabricated Ta_2O_5 films with wide apertures and confirmed the principal operation as a walk-off polarizer, but the polarization-splitting angle was small. To attain the large polarization-splitting angle, we chose Si as the material of films. Films that have a microcolumnar orientation angle as large as 58° is obtained by evaporating Si at a large angle of vapor-beam incidence. The measured polarization-splitting angle of the sample is 20° at the wavelength 1.55μm, which is 3.5 times larger than that of rutile or calcite. |
| キーワード(和) | 偏光分離素子 / 柱状構造 / シリコン / 斜め蒸着 |
| キーワード(英) | walk-off polarizer / columnar structure / silicon / oblique deposition |
| 資料番号 | LQE97-46 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE |
|---|---|
| 開催期間 | 1997/8/21(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 斜め配向Si厚膜の作製と広開口偏光分離素子への応用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of slant Si films and application to a walk-off polarizer with wide apertures |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 偏光分離素子 / walk-off polarizer |
| キーワード(2)（和/英） | 柱状構造 / columnar structure |
| キーワード(3)（和/英） | シリコン / silicon |
| キーワード(4)（和/英） | 斜め蒸着 / oblique deposition |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 青柳 知行 / Tomoyuki Aoyagi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 宇都宮大学工学部 Faculty of Engineering Utsunomiya University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 伊東 勇 / Isamu Ito |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 株式会社シンクロン SHINCRON Co., Ltd. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 白石 和男 / Kazuo Shiraishi |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 宇都宮大学工学部 Faculty of Engineering Utsunomiya University |
| 発表年月日 | 1997/8/21 |
| 資料番号 | LQE97-46 |
| 巻番号（vol） | vol.97 |
| 号番号（no） | 237 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |