講演名 1997/6/17
InP基板上のZnCdSeの成長
岩田 普, 難波江 宏一, 屋敷 健一郎,
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抄録(和) 2成長室MBEを用いてInP基板上にInGaAsバッファー層とZnCdSe層とを一貫成長し, 窒素及び塩素のドーピング特性を調べた. ZnCdSe層の2結晶X線回折ピークの半値幅は最小42秒と良好であった. RFプラズマを用いた窒素ドーピングを行い, ZnCdSe:N結晶でp型伝導を初めて確認した. 実効アクセプター濃度は, 最大でNa-Nd=3.5x10^<16>cm^<-3>を得た. ZnCl_2を用いてClドーピングを行い, n型キャリア濃度を3x10^<16>~7x10^<18>cm^<-3>の範囲で制御出来る事を確認した.
抄録(英) InGaAs buffer layers and ZnCdSe layers were grown on InP substrates by two growth chamber MBE system. Nitrogen doping and chlorine doping were investigated. The X-ray diffraction peak's full width at half maximum for ZnCdSe layer was 42 arcseconds. RF plasma was used for nitrogen doping and ZnCdSe:N layers showed p-type conductivity. Net acceptor concentration was 3.5x10^<16>cm^<-3>. ZnCl_2 was used for chlorine doping and n-type carrier concentrations from 3x10^<16> to 7x10^<18>cm^<-3> were obtained.
キーワード(和) II-VI / ZnCdSe / MBE / ドーピング
キーワード(英) II-VI / ZnCdSe / MBE / doping
資料番号 LQE97-21
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 1997/6/17(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) InP基板上のZnCdSeの成長
サブタイトル(和)
タイトル(英) Epitaxial growth of ZnCdSe on InP substrates
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) II-VI / II-VI
キーワード(2)(和/英) ZnCdSe / ZnCdSe
キーワード(3)(和/英) MBE / MBE
キーワード(4)(和/英) ドーピング / doping
第 1 著者 氏名(和/英) 岩田 普 / H Iwata
第 1 著者 所属(和/英) NEC光エレクトロニクス研究所
Opto-Electronics Res. Labs., NEC Co.
第 2 著者 氏名(和/英) 難波江 宏一 / K Naniwae
第 2 著者 所属(和/英) NEC光エレクトロニクス研究所
Opto-Electronics Res. Labs., NEC Co.
第 3 著者 氏名(和/英) 屋敷 健一郎 / K Yashiki
第 3 著者 所属(和/英) NEC光エレクトロニクス研究所
Opto-Electronics Res. Labs., NEC Co.
発表年月日 1997/6/17
資料番号 LQE97-21
巻番号(vol) vol.97
号番号(no) 100
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日