| 講演名 | 1997/11/5 WDM用異波長光源の1ウエハ内一括作製技術 工藤 耕治, 石坂 政茂, 佐々木 達也, 山崎 裕幸, 山口 昌幸, |
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| 抄録(和) | 大容量波長多重(WDM)光通信の実用化のためには、精密に波長が制御された光源を低価格で提供できる技術を確立する必要がある。一つの回答は、必要な波長とその要求数に応じて、任意の波長の光源を任意の数だけウエハ内に一括作製する技術である。本報告では、最近、我々が開発した、WDM用異波長光源の1ウエハ内一括作製技術について述べる。本技術の特徴は、電子ビーム(EB)露光と狭幅(～1.5μm)選択MOVPEを組み合わせて、同一ウエハ内に異なるプラッグ波長の回折格子と、各プラッグ波長に追随した(ディチューニングが制御された)異なる利得ピーク波長を有する多重量子井戸(MQW)活性層とを一括形成する点にあり、これによって同一ウエハ内で広波長域に亘り、高均一で高性能な特性を有する異波長光源を一括作製することが可能となる。 |
| 抄録(英) | We report detuning-adjusted different-wavelength light sources fabricated on a single wafer that can operate uniformly over a wide wavelength range from 1.52-1.59 μm. These light sources were fabricated by using newly developed electron beam (EB) lithography for grating formation and narrow-stripe selective metal-organic vapor phase epitaxy (MOVPE) for adjusting the gain peak of the active layer to the Bragg wavelengths. |
| キーワード(和) | 波長多重光通信 / 選択成長 / 電子ビーム露光 / 光変調器 / DFBレーザ / ディチューニング制御 |
| キーワード(英) | WDM / Selective MOVPE / EB lithography / Modulator / DFB lasers / Detuning adjustment |
| 資料番号 | OPE97-109 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | OPE |
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| 開催期間 | 1997/11/5(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Optoelectronics (OPE) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | WDM用異波長光源の1ウエハ内一括作製技術 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | On Wafer Fabriction Technology of Different-wavelength Light Sources for WDM Application |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 波長多重光通信 / WDM |
| キーワード(2)（和/英） | 選択成長 / Selective MOVPE |
| キーワード(3)（和/英） | 電子ビーム露光 / EB lithography |
| キーワード(4)（和/英） | 光変調器 / Modulator |
| キーワード(5)（和/英） | DFBレーザ / DFB lasers |
| キーワード(6)（和/英） | ディチューニング制御 / Detuning adjustment |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 工藤 耕治 / Koji KUDO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories NEC Corporation |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 石坂 政茂 / Masashige ISHIZAKA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories NEC Corporation |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 佐々木 達也 / Tatsuya SASAKI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories NEC Corporation |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 山崎 裕幸 / Hiroyuki YAMAZAKI |
| 第 4 著者 所属（和/英） | NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories NEC Corporation |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 山口 昌幸 / Masayuki YAMAGUCHI |
| 第 5 著者 所属（和/英） | NEC株式会社 光・超高周波デバイス研究所 Optoelectronics and High Frequency Device Research Laboratories NEC Corporation |
| 発表年月日 | 1997/11/5 |
| 資料番号 | OPE97-109 |
| 巻番号（vol） | vol.97 |
| 号番号（no） | 362 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
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