講演名 2003/12/12
OMVPE成長1.3μm帯GaInNAs-LDおよびSOA(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
勝山 造, 山田 隆史, 橋本 順一, 村田 道夫, 小山 健二, 伊東 雅史, 猪口 康博, 高岸 茂典, 石田 晶,
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抄録(和) 全有機OMVPE法によりGaInNAs量子井戸レーザ,および半導体光アンプを試作した。BH構造を採用することによって、効果的な電流閉じ込めが実現でき、室温での閾値電流(Ith)は共振器長300μmデバイスで3.7mAとGaInNAsレーザとしてはこれまで報告された最小の値を得た。また温度特性では、少なくとも100℃まで顕著なスロープ効率の低下も見られず、特性温度(To)は80KとIth、To共に一般的なInP系レーザを凌ぐ特性が得られた。一方、進行波型SOAは、GaInNAsとして初めての動作を確認し、ピーク利得14dB、3-dB帯域49nm、ON/OFF比30dBが得られた。また従来のInP系SOAに比して、利得の温度依存性が大幅に改善されることが分かった。
抄録(英) GaInNAs quantum well lasers and optical amplifiers have been grown by low pressure OMVPE using all organometallic sources. A successful low threshold operation has been achieved by using buried heterostructure which provides good current confinement to the active region. Threshold current (Ith) of a 300μm device at 25℃ was 3.7mA which is the lowest value ever reported for GaInNAs edge emitting lasers. Devices operated at least up to 100℃ without large decrease of slope efficiency. The characteristics temperature (To) was 80K and both Ith and To of GaInNAs-LD were superior to those of conventional InP devices. In SOA, peak chip gain, 3-dB band and on/off ratio were 14dB, 49nm and 30dB, respectively. Furthermore, the temperature dependence on chip gain of GaInNAs SOA was found to be much better than that of a conventional InP-based SOA.
キーワード(和) GaInNAs / 有機金属気相成長 / 量子井戸レーザ / 半導体光増幅器
キーワード(英) GaInNAs / OMVPE / Quantum Well Lasers / Semiconductor Optical Amplifiers
資料番号 OPE2003-206,LQE2003-143
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2003/12/12(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 ENG
タイトル(和) OMVPE成長1.3μm帯GaInNAs-LDおよびSOA(半導体レーザ及び光パッシブコンポネント, 及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) OMVPE Grown GaInNAs lasers and SOAs operating at 1.3μm
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GaInNAs / GaInNAs
キーワード(2)(和/英) 有機金属気相成長 / OMVPE
キーワード(3)(和/英) 量子井戸レーザ / Quantum Well Lasers
キーワード(4)(和/英) 半導体光増幅器 / Semiconductor Optical Amplifiers
第 1 著者 氏名(和/英) 勝山 造 / Tsukuru KATSUYAMA
第 1 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 山田 隆史 / Takashi YAMADA
第 2 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 橋本 順一 / Jun-ichi HASHIMOTO
第 3 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) 村田 道夫 / Michio MURATA
第 4 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 5 著者 氏名(和/英) 小山 健二 / Kenji KOYAMA
第 5 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 6 著者 氏名(和/英) 伊東 雅史 / Masashi ITO
第 6 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 7 著者 氏名(和/英) 猪口 康博 / Yasuhiro IGUCHI
第 7 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 8 著者 氏名(和/英) 高岸 茂典 / Shigenori TAKAGISHI
第 8 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社伝送デバイス研究所
Transmission Device R&D Laboratories Sumitomo Electric Industries, Ltd.
第 9 著者 氏名(和/英) 石田 晶 / Akira ISHIDA
第 9 著者 所属(和/英) 住友電気工業株式会社究開発部門
Corporate R&D, Sumitomo Electric Industries, Ltd.
発表年月日 2003/12/12
資料番号 OPE2003-206,LQE2003-143
巻番号(vol) vol.103
号番号(no) 527
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日