講演名 2002/6/7
大電流動作AlGaN/GaNパワーHFET(<小特集テーマ>進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
吉田 清輝, 石井 宏辰, 李 江, 王 徳亮, 市川 昌和,
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抄録(和) 大電流動作を目的としてAlGaN/GaN HFETを試作した.FETの低接触抵抗化のためにガスソースMBE法でソースドレインのコンタクト層を形成した.その結果,FETは20A動作が可能で,耐圧は300Vまで向上した.FETのオン抵抗も約10mΩ・cm^2となり,同耐圧でのSiMOSFETよりも小さい値を実現した.
抄録(英) An AlGaN/GaN heterojunction field-effect transistor (HFET) was fabricated for a large current operation. In order to realize a very low contact resistance, contact layers for a source and drain were formed by a gas-source molecular beam epitaxy (GSMBE). As a result, the FET was operated at 20 A and the breakdown voltage was improved to 300 V. The on-state resistance of FET was about 10 mΩ cm^2 and its value was lower compared with that of Si MOSFET.
キーワード(和) GaN / AlGaN / HFET / MBE / オン抵抗
キーワード(英) GaN / AlGaN / HFET / MBE / on-state resistance
資料番号 LQE2002-63
発行日

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2002/6/7(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Lasers and Quantum Electronics (LQE)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 大電流動作AlGaN/GaNパワーHFET(<小特集テーマ>進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) AlGaN/GaN power HFET for a large current operation
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GaN / GaN
キーワード(2)(和/英) AlGaN / AlGaN
キーワード(3)(和/英) HFET / HFET
キーワード(4)(和/英) MBE / MBE
キーワード(5)(和/英) オン抵抗 / on-state resistance
第 1 著者 氏名(和/英) 吉田 清輝 / Seikoh YOSHIDA
第 1 著者 所属(和/英) 古河電気工業株式会社 横浜研究所
Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd.
第 2 著者 氏名(和/英) 石井 宏辰 / Hirotatsu ISHII
第 2 著者 所属(和/英) 古河電気工業株式会社 横浜研究所
Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd.
第 3 著者 氏名(和/英) 李 江 / Jiang LI
第 3 著者 所属(和/英) 古河電気工業株式会社 横浜研究所
Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd.
第 4 著者 氏名(和/英) 王 徳亮 / Delian WANG
第 4 著者 所属(和/英) JRCAT
JRCAT
第 5 著者 氏名(和/英) 市川 昌和 / Masakazu ICHIKAWA
第 5 著者 所属(和/英) JRCAT
JRCAT
発表年月日 2002/6/7
資料番号 LQE2002-63
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 118
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
発行日