講演名 | 2002/6/7 大電流動作AlGaN/GaNパワーHFET(<小特集テーマ>進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般) 吉田 清輝, 石井 宏辰, 李 江, 王 徳亮, 市川 昌和, |
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抄録(和) | 大電流動作を目的としてAlGaN/GaN HFETを試作した.FETの低接触抵抗化のためにガスソースMBE法でソースドレインのコンタクト層を形成した.その結果,FETは20A動作が可能で,耐圧は300Vまで向上した.FETのオン抵抗も約10mΩ・cm^2となり,同耐圧でのSiMOSFETよりも小さい値を実現した. |
抄録(英) | An AlGaN/GaN heterojunction field-effect transistor (HFET) was fabricated for a large current operation. In order to realize a very low contact resistance, contact layers for a source and drain were formed by a gas-source molecular beam epitaxy (GSMBE). As a result, the FET was operated at 20 A and the breakdown voltage was improved to 300 V. The on-state resistance of FET was about 10 mΩ cm^2 and its value was lower compared with that of Si MOSFET. |
キーワード(和) | GaN / AlGaN / HFET / MBE / オン抵抗 |
キーワード(英) | GaN / AlGaN / HFET / MBE / on-state resistance |
資料番号 | LQE2002-63 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | LQE |
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開催期間 | 2002/6/7(から1日開催) |
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講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Lasers and Quantum Electronics (LQE) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 大電流動作AlGaN/GaNパワーHFET(<小特集テーマ>進展する窒化物半導体光・電子デバイスの現状,及び一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | AlGaN/GaN power HFET for a large current operation |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | GaN / GaN |
キーワード(2)(和/英) | AlGaN / AlGaN |
キーワード(3)(和/英) | HFET / HFET |
キーワード(4)(和/英) | MBE / MBE |
キーワード(5)(和/英) | オン抵抗 / on-state resistance |
第 1 著者 氏名(和/英) | 吉田 清輝 / Seikoh YOSHIDA |
第 1 著者 所属(和/英) | 古河電気工業株式会社 横浜研究所 Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd. |
第 2 著者 氏名(和/英) | 石井 宏辰 / Hirotatsu ISHII |
第 2 著者 所属(和/英) | 古河電気工業株式会社 横浜研究所 Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd. |
第 3 著者 氏名(和/英) | 李 江 / Jiang LI |
第 3 著者 所属(和/英) | 古河電気工業株式会社 横浜研究所 Yokohama R&D Laboratories, The Furukawa Electric Co., Ltd. |
第 4 著者 氏名(和/英) | 王 徳亮 / Delian WANG |
第 4 著者 所属(和/英) | JRCAT JRCAT |
第 5 著者 氏名(和/英) | 市川 昌和 / Masakazu ICHIKAWA |
第 5 著者 所属(和/英) | JRCAT JRCAT |
発表年月日 | 2002/6/7 |
資料番号 | LQE2002-63 |
巻番号(vol) | vol.102 |
号番号(no) | 118 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |