| 講演名 | 2002/12/13 ECRスパッタカーボン膜の構造と機械的・電気的性質 上坂 勇, 矢嶋 友和, 吉澤 弘道, 梅村 茂, 廣野 滋, 金子 礼三, |
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| 抄録(和) | ECRスパッタ法を用い、アルゴンプラズマ中でカーボン膜を成膜した。成膜時のバイアス電圧が増大すると、カーボン膜の電気伝導度は低下し、耐摩耗性は向上した。しかし、バイアス電圧が-80Vを超えると、電気伝導度は増加し、耐摩耗性は低下した。これらの特性は、カーボン膜中のsp^2成分とsp^3成分の割合に依存することを明らかにした。また、酸素-アルゴンプラズマ中で作成したカーボン膜では、膜中のsp^2成分とsp^3成分の割合はプラズマ中の酸素濃度に依存することを見出した。 |
| 抄録(英) | Carbon films were deposited onto silicon substrates by ECR spattering in argon plasma. The electric conductivity of the deposited films decreased and the wear durability of the films improved with increasing bias voltage. When the bias voltage exceeded -80V, the electric conductivity of the films increased and the wear durability degraded. These characteristics of the films were attributed to the change of sp^2 bonding versus sp^3 bonding ratio in the deposited films. We also deposited the carbon films by ECR spattering in argon-oxygen mixture plasma and found that the sp^2/sp^3 ratio of the films depends on the oxygen concentration in the argon-oxygen mixture plasma. |
| キーワード(和) | カーボン / AFM / ECRスパッタ / 薄膜 / sp^2 / sp^3 |
| キーワード(英) | carbon / AFM / ECR sputtering / thin film / sp^2 / sp^3 |
| 資料番号 | EMD2002-94 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMD |
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| 開催期間 | 2002/12/13(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromechanical Devices (EMD) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ECRスパッタカーボン膜の構造と機械的・電気的性質 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Structure, mechanical and electrical properties of ECR sputtered carbon films |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | カーボン / carbon |
| キーワード(2)（和/英） | AFM / AFM |
| キーワード(3)（和/英） | ECRスパッタ / ECR sputtering |
| キーワード(4)（和/英） | 薄膜 / thin film |
| キーワード(5)（和/英） | sp^2 / sp^2 |
| キーワード(6)（和/英） | sp^3 / sp^3 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 上坂 勇 / Isamu UESAKA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 千葉工業大学工学部 Chiba Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 矢嶋 友和 / Tomokazu YAJIMA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 千葉工業大学工学部 Chiba Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 吉澤 弘道 / Hiromichi YOSHIZAWA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 千葉工業大学工学部 Chiba Institute of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 梅村 茂 / Shigeru UMEMURA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 千葉工業大学工学部 Chiba Institute of Technology |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 廣野 滋 / Shigeru HIRONO |
| 第 5 著者 所属（和/英） | エヌ・ティ・ティ・アフティ株式会社 NTT AFTY Corporation |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 金子 礼三 / Reizo KANEKO |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 和歌山大学システム工学部 Faculty of Systems Engineering, Wakayama University |
| 発表年月日 | 2002/12/13 |
| 資料番号 | EMD2002-94 |
| 巻番号（vol） | vol.102 |
| 号番号（no） | 539 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |