| 講演名 | 2002/11/15 ac形PDP保護層作成条件に関する研究 平川 貴義, 後藤 貞浩, 張 書秀, 内池 平樹, |
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| 抄録(和) | ac型プラズマディスプレイ(ac-PDP)の保護層材料には酸化マグネシウム(MgO)が用いられている.本研究では,MgO保護層を作成する際,酸素を導入しながら蒸着をおこない,蒸着時の酸素導入がMgO薄膜の性質にどのような影響を及ぼすのか,またその影響の要因を見出す為の分析をおこなった. |
| 抄録(英) | The effect of Oxygen inflow during evaporation on the deposited Magnesium Oxide (MgO) thin film were studied. Several analyses were tried for searching the factor, which changes the characteristics of MgO thin films. |
| キーワード(和) | ac-PDP用保護層 / MgO / 結晶性 |
| キーワード(英) | Protecting Layer for ac-PDPs / Magnesium Oxide / Crystalline |
| 資料番号 | EID2002-68 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EID |
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| 開催期間 | 2002/11/15(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electronic Information Displays (EID) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ac形PDP保護層作成条件に関する研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characterization of the Influence of Flow Quantity of Oxygen on the Magnesium Oxide Thin Film During Vacuum Deposition |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ac-PDP用保護層 / Protecting Layer for ac-PDPs |
| キーワード(2)（和/英） | MgO / Magnesium Oxide |
| キーワード(3)（和/英） | 結晶性 / Crystalline |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 平川 貴義 / Takayoshi HIRAKAWA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 佐賀大学理工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Science and Engineering, Saga University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 後藤 貞浩 / Sadahiro GOTO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 佐賀大学理工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Science and Engineering, Saga University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 張 書秀 / Shuxiu ZHANG |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 佐賀大学理工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Science and Engineering, Saga University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 内池 平樹 / Heiju UCHIIKE |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 佐賀大学理工学部電気電子工学科 Department of Electrical and Electronic Engineering, Faculty of Science and Engineering, Saga University |
| 発表年月日 | 2002/11/15 |
| 資料番号 | EID2002-68 |
| 巻番号（vol） | vol.102 |
| 号番号（no） | 467 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |