講演名 2003/10/3
光反応性低分子・高分子複合体による表面レリーフ及び位相格子の同時記録(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
田本 誉, 小野 浩司, 江本 顕雄, 川月 喜弘,
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抄録(和) 光化学反応性低分子・高分子複合体を用い、ホログラム記録の形成過程の調査を行った。複合体に波長325nmのHe・Cdレーザーの干渉光を照射してホログラム回折格子を作成し、表面レリーフ構造及び目折効率を測定した。その結果、作成された回折格子には、表面レリーフ格子と位相格子が共存していることがわかった。また熱処理の影響を観察した結果、表面レリーフ構造は100℃前後で消失する一方で、位相格子は200℃付近まで深くなることがわかった。
抄録(英) The holographic recording processes in photoreactive monomer/polymer composites were extensively investigated. The holographic recording were conducted with He-Cd laser which emits the continuous waves with a wavelength of 325nm. The surface relief structure and diffraction efficiency were observed and we confirmed that the resultant gratings contained both the surface relief and phase gratings. Effect of the annealing on the gratings were also investigated and the surface relief gratings were disappear at 100℃, while the modulation depth of the phase gratings increasing with arising the temperature.
キーワード(和) 表面レリーフ / 位相格子 / 光反応性低分子・高分子複合体
キーワード(英) surface relief / phase grating / photoreactive monomer/polymer composite
資料番号 OME2003-84
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2003/10/3(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 光反応性低分子・高分子複合体による表面レリーフ及び位相格子の同時記録(光機能有機材料・デバイス,光非線形現象,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Simultaneous recording of surface relief and phase gratings in photoreactive monomer polymer composites
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 表面レリーフ / surface relief
キーワード(2)(和/英) 位相格子 / phase grating
キーワード(3)(和/英) 光反応性低分子・高分子複合体 / photoreactive monomer/polymer composite
第 1 著者 氏名(和/英) 田本 誉 / Takashi TAMOTO
第 1 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学工学部電気系
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 小野 浩司 / Hiroshi ONO
第 2 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学工学部電気系
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 江本 顕雄 / Akira EMOTO
第 3 著者 所属(和/英) 長岡技術科学大学工学部電気系
Department of Electrical Engineering, Nagaoka University of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 川月 喜弘 / Nobuhiro KAWATUKI
第 4 著者 所属(和/英) 姫路工業大学大学院
Department of Material Science and Chemistry, Himeji Institute of Technology
発表年月日 2003/10/3
資料番号 OME2003-84
巻番号(vol) vol.103
号番号(no) 359
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日