講演名 2003/6/27
MOCVD法によるPb(Zr,Ti)O_3薄膜の低温成長と特性の改善(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
岡庭 守, 藤沢 浩訓, 清水 勝, 丹生 博彦,
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抄録(和) MOCVD法によるPb(Zr,Ti)0_3(PZT)薄膜の低温成長と核付けによる特性の改善を試みた.Pb原料として(C_2H_5)_3PbOCH_2C(CH_3)_3(TEPOL)を用いることによって,成長温度380℃でも強誘電性を有するPZT薄膜が得られた.さらに,TEPOLの使用とPbTi0_3(PTO)核付けを合わせて行うことによって,340℃という低温でもペロブスカイトPZT薄膜が成長し,成長温度370℃でも2Pr=4.2μC/cm^2,2Ec=63kV/cmを有するPZT薄膜が得られた.PTOシードの結晶性がPZT薄膜の特性に及ぼす影響を調べた結果,PZT薄膜の結晶性はPTOシードの結晶性に強く影響されることが分かった.
抄録(英) Low temperature growth of Pb(Zr,Ti)O_3 (PZT) thin films by MOCVD was performed using PbTiO_3 (PTO) seeds . When (C_2H_5)_3PbOCH_2C(CH_3)_3(TEPOL) was used as a lead-precursor, perovskite PZT thin films were grown at 380℃. Furthermore, PTO seeds were used in combination with TEPOL, perovskite PZT thin films were grown at the temperature as low as 340℃. PZT thin films grown at 370℃ exhibited D-E loops with 2Pr of 4.2 μC/cm^2 and 2Ec of 63kV/cm. It was also found that crystallinity of PZT thin films was strongly influenced by that of PTO seeds.
キーワード(和) 低温成長 / 核付け法 / Pb(Zr,Ti)O_3薄膜 / MOCVD法
キーワード(英) Low temperature growth / Seeding method / Pb(Zr,Ti)O_3 thin films / MOCVD
資料番号 OME2003-33
発行日

研究会情報
研究会 OME
開催期間 2003/6/27(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Organic Material Electronics (OME)
本文の言語 JPN
タイトル(和) MOCVD法によるPb(Zr,Ti)O_3薄膜の低温成長と特性の改善(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Low temperature growth of Pb(Zr,Ti)O_3 thin films by MOCVD and improvements in their properties
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 低温成長 / Low temperature growth
キーワード(2)(和/英) 核付け法 / Seeding method
キーワード(3)(和/英) Pb(Zr,Ti)O_3薄膜 / Pb(Zr,Ti)O_3 thin films
キーワード(4)(和/英) MOCVD法 / MOCVD
第 1 著者 氏名(和/英) 岡庭 守 / Mamoru Okaniwa
第 1 著者 所属(和/英) 姫路工業大学大学院工学研究科
Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 藤沢 浩訓 / Hironori Fujisawa
第 2 著者 所属(和/英) 姫路工業大学大学院工学研究科
Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 清水 勝 / Masaru Shimizu
第 3 著者 所属(和/英) 姫路工業大学大学院工学研究科
Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 丹生 博彦 / Hirohiko Niu
第 4 著者 所属(和/英) 姫路工業大学大学院工学研究科
Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology
発表年月日 2003/6/27
資料番号 OME2003-33
巻番号(vol) vol.103
号番号(no) 170
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日