講演名 | 2003/6/27 MOCVD法によるPb(Zr,Ti)O_3薄膜の低温成長と特性の改善(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般) 岡庭 守, 藤沢 浩訓, 清水 勝, 丹生 博彦, |
---|---|
PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
抄録(和) | MOCVD法によるPb(Zr,Ti)0_3(PZT)薄膜の低温成長と核付けによる特性の改善を試みた.Pb原料として(C_2H_5)_3PbOCH_2C(CH_3)_3(TEPOL)を用いることによって,成長温度380℃でも強誘電性を有するPZT薄膜が得られた.さらに,TEPOLの使用とPbTi0_3(PTO)核付けを合わせて行うことによって,340℃という低温でもペロブスカイトPZT薄膜が成長し,成長温度370℃でも2Pr=4.2μC/cm^2,2Ec=63kV/cmを有するPZT薄膜が得られた.PTOシードの結晶性がPZT薄膜の特性に及ぼす影響を調べた結果,PZT薄膜の結晶性はPTOシードの結晶性に強く影響されることが分かった. |
抄録(英) | Low temperature growth of Pb(Zr,Ti)O_3 (PZT) thin films by MOCVD was performed using PbTiO_3 (PTO) seeds . When (C_2H_5)_3PbOCH_2C(CH_3)_3(TEPOL) was used as a lead-precursor, perovskite PZT thin films were grown at 380℃. Furthermore, PTO seeds were used in combination with TEPOL, perovskite PZT thin films were grown at the temperature as low as 340℃. PZT thin films grown at 370℃ exhibited D-E loops with 2Pr of 4.2 μC/cm^2 and 2Ec of 63kV/cm. It was also found that crystallinity of PZT thin films was strongly influenced by that of PTO seeds. |
キーワード(和) | 低温成長 / 核付け法 / Pb(Zr,Ti)O_3薄膜 / MOCVD法 |
キーワード(英) | Low temperature growth / Seeding method / Pb(Zr,Ti)O_3 thin films / MOCVD |
資料番号 | OME2003-33 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | OME |
---|---|
開催期間 | 2003/6/27(から1日開催) |
開催地(和) | |
開催地(英) | |
テーマ(和) | |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | |
委員長氏名(英) | |
副委員長氏名(和) | |
副委員長氏名(英) | |
幹事氏名(和) | |
幹事氏名(英) | |
幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Organic Material Electronics (OME) |
---|---|
本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | MOCVD法によるPb(Zr,Ti)O_3薄膜の低温成長と特性の改善(圧電デバイス・材料,強誘電体材料,有機エレクトロニクス,一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Low temperature growth of Pb(Zr,Ti)O_3 thin films by MOCVD and improvements in their properties |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | 低温成長 / Low temperature growth |
キーワード(2)(和/英) | 核付け法 / Seeding method |
キーワード(3)(和/英) | Pb(Zr,Ti)O_3薄膜 / Pb(Zr,Ti)O_3 thin films |
キーワード(4)(和/英) | MOCVD法 / MOCVD |
第 1 著者 氏名(和/英) | 岡庭 守 / Mamoru Okaniwa |
第 1 著者 所属(和/英) | 姫路工業大学大学院工学研究科 Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology |
第 2 著者 氏名(和/英) | 藤沢 浩訓 / Hironori Fujisawa |
第 2 著者 所属(和/英) | 姫路工業大学大学院工学研究科 Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology |
第 3 著者 氏名(和/英) | 清水 勝 / Masaru Shimizu |
第 3 著者 所属(和/英) | 姫路工業大学大学院工学研究科 Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology |
第 4 著者 氏名(和/英) | 丹生 博彦 / Hirohiko Niu |
第 4 著者 所属(和/英) | 姫路工業大学大学院工学研究科 Department of Electrical Engineering and Computer Sciences, Graduate School of Engineering, Himeji Institute of Technology |
発表年月日 | 2003/6/27 |
資料番号 | OME2003-33 |
巻番号(vol) | vol.103 |
号番号(no) | 170 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |