| 講演名 | 2004/9/20 65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般) 小谷 敏也, 井上 壮一, |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | low-k1リソグラフィ / OPC / RET / DfM |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | VLD2004-37,SDM2004-161 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2004/9/20(から1日開催) |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 65nm世代以降のリソフレンドリ設計技術(<特集>プロセス・デバイス・回路シミュレーション及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | low-k1リソグラフィ |
| キーワード(2)（和/英） | OPC |
| キーワード(3)（和/英） | RET |
| キーワード(4)（和/英） | DfM |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小谷 敏也 |
| 第 1 著者 所属（和/英） | (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 井上 壮一 |
| 第 2 著者 所属（和/英） | (株)東芝セミコンダクター社プロセス技術推進センター |
| 発表年月日 | 2004/9/20 |
| 資料番号 | VLD2004-37,SDM2004-161 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 323 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 2 |
| 発行日 | |