| 講演名 | 2004/6/25 Fabrication of Sub-100 nm Linewidth Grating Patterns Using Nanoimprint Lithography(Session A8 Nano-Lithography)(2004 Asia-Pasific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2004)) , |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | Nanoimprint Lithography (NIL) is a promising technology enabling the fabrication of nanoscale patterns with low cost. In order to be a mainstream lithography NIL should overcome the current technical limitations, which will take several years. However, a state-of-the-art NIL can find a short-term application in nano-structured optical devices and bio-devices, where the multiplayer process is not required. As one of working examples of applying NIL to the nanostructured optical devices, fabrication of sub-100 nm line-width grating patterns is described in this manuscript with a particular emphasis on the nanowire polarizer. |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | Nanoimprint Lithography / Nano-structured Optical Devices / Nanowire Polarizer |
| 資料番号 | ED2004-96,SDM2004-108 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2004/6/25(から1日開催) |
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| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fabrication of Sub-100 nm Linewidth Grating Patterns Using Nanoimprint Lithography(Session A8 Nano-Lithography)(2004 Asia-Pasific Workshop on Fundamentals and Application of Advanced Semiconductor Devices (AWAD 2004)) |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | / Nanoimprint Lithography |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | / Ki-Dong Lee |
| 第 1 著者 所属（和/英） | Devices & Materials Lab., LG Electronics Institute of Technology Devices & Materials Lab., LG Electronics Institute of Technology |
| 発表年月日 | 2004/6/25 |
| 資料番号 | ED2004-96,SDM2004-108 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 157 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | |