| 講演名 | 2003/4/8 ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術) 中島 寛, 王 俊利, 趙 麗巍, |
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| 抄録(和) | ECRプラズマを友好に活用することにより、界面特性および絶縁特性の優れた絶縁膜が低温で形成できること、並びに緻密で応力の低いSiON絶縁膜が有機EL用保護膜に適していることを述べる。 |
| 抄録(英) | We report on the fabrication of high-quality insulating films at low temperature by using ECR plasma, which shows high breakdown filed and low interface states. Also SiON films deposited by ECR sputtering shows low stress, which is suitable for the passivation of organic EL devices. |
| キーワード(和) | ECR / SiO_2 / SiON / 有機EL用保護膜 |
| キーワード(英) | ECR / SiO_2 / SiON / organic passivation film for organic EL devices |
| 資料番号 | ED2003-11,SDM2003-11,OME2003-11 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2003/4/8(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ECRプラズマを活用した高品質絶縁膜の低温形成(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Low Temperature Fabrication of High-Quality Insulating Films by Using ECR Plasma |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ECR / ECR |
| キーワード(2)（和/英） | SiO_2 / SiO_2 |
| キーワード(3)（和/英） | SiON / SiON |
| キーワード(4)（和/英） | 有機EL用保護膜 / organic passivation film for organic EL devices |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 中島 寛 / Hiroshi NAKASHIMA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 九州大学先端科学技術共同研究センター Advanced Sci. and Tech. Ceter for Cooperative Research, Kyushu Univ. |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 王 俊利 / Junli WANG |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 九州大学先端科学技術共同研究センター Advanced Sci. and Tech. Ceter for Cooperative Research, Kyushu Univ. |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 趙 麗巍 / Liwei ZHAO |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 九州大学先端科学技術共同研究センター Advanced Sci. and Tech. Ceter for Cooperative Research, Kyushu Univ. |
| 発表年月日 | 2003/4/8 |
| 資料番号 | ED2003-11,SDM2003-11,OME2003-11 |
| 巻番号（vol） | vol.103 |
| 号番号（no） | 6 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |