講演名 | 2003/6/25 Structural and optical properties of InGaAs/GaAs quantum dots using atomic layer epitaxy technique for the application of optical communication(AWAD2003 : Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices) , |
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抄録(和) | |
抄録(英) | We report structural and optical properties of In_<0.5>Ga_<0.5>As/GaAs quantum dots grown by atomic layer epitaxy (ALE) technique with atomic force microscope, transmission electron microscope and photoluminescence measurement. The ALE dots are grown with repeated periods of 1 mono-layer of InAs and GaAs. All reported ALE dots show 300 K-PL spectrum, and 1.276μm (FWHM:32.3 meV) of 300 K-PL peak was obtained in case of 7 periods of In_<0.5>Ga_<0.5>As ALE dots in a 100 A-thick In_<0.1>Ga_<0.9>As well. Dependence of growth temperature on the properties of ALE dots is also reported. |
キーワード(和) | |
キーワード(英) | Atomic layer epitaxy / InGaAs / Quantum dots / PL / TEM / AFM |
資料番号 | ED2003-98,SDM2003-109 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | SDM |
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開催期間 | 2003/6/25(から1日開催) |
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幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Silicon Device and Materials (SDM) |
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本文の言語 | ENG |
タイトル(和) | |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Structural and optical properties of InGaAs/GaAs quantum dots using atomic layer epitaxy technique for the application of optical communication(AWAD2003 : Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices) |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | / Atomic layer epitaxy |
第 1 著者 氏名(和/英) | / J. D. SONG |
第 1 著者 所属(和/英) | Nano-device Research Center, Korea Institute of Science and Technology |
発表年月日 | 2003/6/25 |
資料番号 | ED2003-98,SDM2003-109 |
巻番号(vol) | vol.103 |
号番号(no) | 164 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |