講演名 2003/6/25
Structural and optical properties of InGaAs/GaAs quantum dots using atomic layer epitaxy technique for the application of optical communication(AWAD2003 : Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices)
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抄録(和)
抄録(英) We report structural and optical properties of In_<0.5>Ga_<0.5>As/GaAs quantum dots grown by atomic layer epitaxy (ALE) technique with atomic force microscope, transmission electron microscope and photoluminescence measurement. The ALE dots are grown with repeated periods of 1 mono-layer of InAs and GaAs. All reported ALE dots show 300 K-PL spectrum, and 1.276μm (FWHM:32.3 meV) of 300 K-PL peak was obtained in case of 7 periods of In_<0.5>Ga_<0.5>As ALE dots in a 100 A-thick In_<0.1>Ga_<0.9>As well. Dependence of growth temperature on the properties of ALE dots is also reported.
キーワード(和)
キーワード(英) Atomic layer epitaxy / InGaAs / Quantum dots / PL / TEM / AFM
資料番号 ED2003-98,SDM2003-109
発行日

研究会情報
研究会 SDM
開催期間 2003/6/25(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Silicon Device and Materials (SDM)
本文の言語 ENG
タイトル(和)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Structural and optical properties of InGaAs/GaAs quantum dots using atomic layer epitaxy technique for the application of optical communication(AWAD2003 : Asia-Pacific Workshop on Fundamental and Application of Advanced Semiconductor Devices)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) / Atomic layer epitaxy
第 1 著者 氏名(和/英) / J. D. SONG
第 1 著者 所属(和/英)
Nano-device Research Center, Korea Institute of Science and Technology
発表年月日 2003/6/25
資料番号 ED2003-98,SDM2003-109
巻番号(vol) vol.103
号番号(no) 164
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日