| 講演名 | 2002/10/18 Yee格子を用いた近傍磁界分布のみの測定による近傍電界分布 / 遠方界放射パターン推定 平山 裕, 上 芳夫, |
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| 抄録(和) | 最終的には遠方界放射を抑制することを目的として,近傍電磁界測定が行われている.測定された結果は表示され,強度が強い部位を以て対策を要する場所とされている.しかしながら,試作の現場で,放射を抑制する目的のためには,測定結果を表示しただけでは不十分である.ここでは,近傍界測定にYee格子を導入することで,1)近傍電界分布を,近傍磁界分布のみの測定により取得し,2)測定された近傍磁界分布のみを用いて,総放射量に対する任意の点からの放射の寄与を示すポインティングベクトル分布を取得し,3)ポインティングベクトル分布を用いることにより,電波吸収材料を配置した場合の放射低減効果を推定し,4)測定された近傍磁界分布のみを用いて,遠方界放射パターンを推定する方法を提案する.最後に,PCBトレースを模擬した,グラウンド板上の,立ち上がり部のある伝送線路の近傍界を測定し,ここで提案する手法を適用することにより効果を検証する. |
| 抄録(英) | Near-field measurement is performed in order to decrease far-field emission finally. Measured fields are plotted, and then a region whose intensity of the field is strong is regarded to be taken a step. However, in the scene of manufacturing, only plotting is unsufficient to reduce a present emission. In this report, we propose a new method by using the Yee scheme for near-field measurement. It enables 1) to obtain E-field distribution by only H-field measurement, 2) to obtain the Poynting vector, which indicates a contribution of emission from arbitrary region for total emission, 3) to estimate an effectiveness of reduction for an emission in the case of using wave absorber 4) to estimate a far-field radiation pattern by using only measured H-field distribution. Finally, experiments are performed to discuss an effectiveness of proposing method. |
| キーワード(和) | Yee格子 / 近傍界測定 / ポインティングベクトル / 遠方界放射パターン |
| キーワード(英) | Yee Scheme / Near fileld measurement / Poynting vector / Far-field pattern |
| 資料番号 | EMCJ2002-73 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | EMCJ |
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| 開催期間 | 2002/10/18(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Electromagnetic Compatibility (EMCJ) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | Yee格子を用いた近傍磁界分布のみの測定による近傍電界分布 / 遠方界放射パターン推定 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Estimation of Near-E Field and Far Field Radiation Pattern with Only Near-M Field Measurement Using Yee Scheme |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Yee格子 / Yee Scheme |
| キーワード(2)（和/英） | 近傍界測定 / Near fileld measurement |
| キーワード(3)（和/英） | ポインティングベクトル / Poynting vector |
| キーワード(4)（和/英） | 遠方界放射パターン / Far-field pattern |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 平山 裕 / Hiroshi HIRAYAMA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 電気通信大学 電気通信学研究科 Department of Information and Communication Engineering University of Electro-Communications |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 上 芳夫 / Yoshio KAMI |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 電気通信大学 電気通信学研究科 Department of Information and Communication Engineering University of Electro-Communications |
| 発表年月日 | 2002/10/18 |
| 資料番号 | EMCJ2002-73 |
| 巻番号（vol） | vol.102 |
| 号番号（no） | 406 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |