| 講演名 | 2004/7/2 高異方性磁界を有するFe-Co-B大飽和磁化軟磁性裏打ち層の開発(垂直記録及び一般) 伊東 祐史, 孔 碩賢, 岡本 健志, 中川 茂樹, |
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| 抄録(和) | 大飽和磁化を有するFe-Co-B/Ni-Fe二層膜には200～400Oeの高い異方性磁界が観測される。膜面内におけるX線回折測定の結果から、困難軸方向と比較して容易軸方向に沿った面間隔が伸張していることが確認された。この面間隔の変化引き起こす異方的な残留内部応力が二層膜における磁気弾性エネルギーに寄与することが高異方性磁界の原因と考えられる。膜作製時のArガス圧と膜の有する異方性磁界H_kとの関係は、膜内部の異方的な残留応力がスパッタ粒子の入射角の偏りにより形成されていることを示唆した。さらに、磁気ディスクの径方向に磁気異方性を配する手法として、ディスクを回転させた状態でのスパッタ法を検討した。これにより、径方向に約280Oeの異方性磁界を有するディスクの作製に成功した。 |
| 抄録(英) | The origin of high anisotropy field H_k and low coercivity H_k of Fe-Co-B/Ni-Fe double layered film with high 4πM_s was investigated. In-plane and out-of-plane XRD studies clarified that the lattice spacing of planes along the easy axis direction was expanded than that along the hard axis direction. The fact was confirmed that such stress caused by the lattice expansion had significant effects on the magnetoelastic energy in this double layer. We investigated the dependence of H_k on Ar gas pressure. It was considered that the anisotropic stress is generated for the deviation of incident angle of sputtered particles. In order to align the magnetic anisotropy field to the cross track direction on a disk, the deposition of the SUL were performed on a rotating disk substrate. We succeeded in production of disk, which has Hk of 280 Oe in a radial direction of the disk in the whole ares of it. |
| キーワード(和) | Fe-Co-B / 異方性磁界 / 残留応力 / 裏打ち軟磁性層 / ディスク径方向異方性 |
| キーワード(英) | Fe-Co-B layer / magnetic anisotropy field / residual stress / Soft magnetic underlayer / radial anisotropy field on disk |
| 資料番号 | MR2004-9 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2004/7/2(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 高異方性磁界を有するFe-Co-B大飽和磁化軟磁性裏打ち層の開発(垂直記録及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of Fe-Co-B/[Ni-Fe/Si] Soft Magnetic Underlayer with High Anisotropy Field and High Saturation Magnetization |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Fe-Co-B / Fe-Co-B layer |
| キーワード(2)（和/英） | 異方性磁界 / magnetic anisotropy field |
| キーワード(3)（和/英） | 残留応力 / residual stress |
| キーワード(4)（和/英） | 裏打ち軟磁性層 / Soft magnetic underlayer |
| キーワード(5)（和/英） | ディスク径方向異方性 / radial anisotropy field on disk |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 伊東 祐史 / Sukefumi ITO |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 孔 碩賢 / Sok-Hyun KONG |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 岡本 健志 / Takeshi OKAMOTO |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 中川 茂樹 / Shigeki NAKAGAWA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 東京工業大学工学部 Faculty of Engineering, Tokyo Institute of Technology |
| 発表年月日 | 2004/7/2 |
| 資料番号 | MR2004-9 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 167 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |