| 講演名 | 2002/10/31 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製 : スピネル酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア用軟磁性裏打ち層 和田 宏文, 山本 節夫, 栗巣 普揮, 松浦 満, 下里 義博, |
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| 抄録(和) | 電子サイクロトロン共鳴(ECR)マイクロ波を用いた反応性スパッタ法によって、Co含有スピネルフェライト薄膜垂直記録メディア用のNi-Znフェライト薄膜軟磁性裏打ち層を作製した。高成膜速度を実現するため、ECRスパッタ・ターゲットの構造、酸素ガスの導入位置、マイクロ波電力、ターゲット電圧、酸素ガス分圧などのプロセスパラメータが注意深く最適化された。抗磁力が15 Oeと低く、(400)が優先配向したNi-Znスピネルフェライト薄膜が、200℃以下の温度で、14nm/min.の成膜速度で作製できた。反応性ECRスパッタ法は、垂直磁気記録メディアの作製に適した方法である。 |
| 抄録(英) | A novel reactive sputtering method using an Electron-Cyclotron-Resonance (ECR) microwave plasma was used to deposit Ni-Zn ferrite thin-films for a soft magnetic backlayer of Co-containing spinel ferrite thin-film perpendicular magnetic recording media. To achieve high deposition rate, configuration of sputtering target, position of oxygen gas inlet and processing parameters such as microwave input power, target voltage, oxygen partial pressure were carefully optimized. Ni-Zn spinel ferrite thin-films with preferential orientation of (400) and relatively low coercivity of 15 Oe were obtained at a high deposition rate of 14 nm/min and at a temperatures lower than 200 degrees C. The reactive ECR sputtering is one of the most suitable preparation methods of ferrite thin-films applicable to the perpendicular magnetic recording media. |
| キーワード(和) | Ni-Znフェライト薄膜 / 反応性ECRスパッタ法 / 垂直磁気記録 / 記録メディア |
| キーワード(英) | Ni-Zn ferrite thin-films / Reactive ECR sputtering / Perpendicular recording / Recording media |
| 資料番号 | MR 2002-38 |
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| 研究会情報 | |
| 研究会 | MR |
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| 開催期間 | 2002/10/31(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Magnetic Recording (MR) |
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| 本文の言語 | ENG |
| タイトル（和） | 反応性ECRスパッタリング法によるNi-Znフェライト薄膜の低温作製 : スピネル酸化鉄薄膜垂直磁気記録メディア用軟磁性裏打ち層 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Low Temperature Sputter-Deposition of Ni-Zn Ferrite Thin-Films Using Electron-Cyclotron-Resonance Microwave Plasma : Soft Magnetic Backlayer for Spinel Ferrite Thin-Film Perpendicular Magnetic Recording Media |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | Ni-Znフェライト薄膜 / Ni-Zn ferrite thin-films |
| キーワード(2)（和/英） | 反応性ECRスパッタ法 / Reactive ECR sputtering |
| キーワード(3)（和/英） | 垂直磁気記録 / Perpendicular recording |
| キーワード(4)（和/英） | 記録メディア / Recording media |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 和田 宏文 / Hirofumi WADA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部 Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 山本 節夫 / Setsuo YAMAMOTO |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部 Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 栗巣 普揮 / Hiroki KURISU |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部 Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 松浦 満 / Mitsuru MATSUURA |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山口大学工学部 Faculty of Engineering, Yamaguchi University |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 下里 義博 / Yoshihiro SHIMOSATO |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 株式会社島津製作所 SHIMADZU Corporation |
| 発表年月日 | 2002/10/31 |
| 資料番号 | MR 2002-38 |
| 巻番号（vol） | vol.102 |
| 号番号（no） | 423 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
| 発行日 | |