| 講演名 | 2004/7/14 金属板挿入による多周波共用電波吸収壁の開発(光・電波ワークショップ) 安井 裕史, 岡野 好伸, 安部 實, 谷 真佐人, |
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| 抄録(和) | 近年,無線LANに代表されるように,室内でも無線技術が使用されるようになり,周波数帯も複数(無線LANでは2.4GHz帯と5.2GHz帯)が使用されている.これに伴い無線機器相互間での,電磁環境問題が深刻化し,その対策が検討されている.その一方策として室内用電波吸収壁が種々提案されている.複数の吸収ピーク周波数をもつ電波吸収壁は特性の異なった吸収体を数層重ね,厚みのある吸収壁が従来実現されて来た.本報告では,1層電波吸収壁と反射板との間にスペーサを設け,その中間に大きさの異なるパッチ状の金属板を同一平面状に周期的に挿入することにより厚みを増さずに多周波へ対応できる吸収壁の実現について述べる. |
| 抄録(英) | Recently, wireless communications, for instance, wireless LAN and Bluetooth, etc, became widely used indoors. Therefore, electromagnetic environment interference becomes serious there. One solution of this problem is setting microwave absorber on a wall and a ceiling. On the other hand, RF-absorber is required to absorption in two or more frequency bands because the band used for the wireless communication system has increased. In the past, Multi-band absorber is made same absorbable materials of deferent electric properties. In this report, we achieved that this is made one layer absorber and some multi-size metal plates into the area between absolver and reflection plate. |
| キーワード(和) | 電波吸収体 / FDTD / 多周波共用 / パッチアンテナ |
| キーワード(英) | Microwave Absorber / FDTD / Multi-Band Frequency / Patch Antenna |
| 資料番号 | SAT2004-39 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SAT |
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| 開催期間 | 2004/7/14(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Satellite Telecommunications (SAT) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 金属板挿入による多周波共用電波吸収壁の開発(光・電波ワークショップ) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development of Multi Band Microwave Absorber with Metal Plate Insertion |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 電波吸収体 / Microwave Absorber |
| キーワード(2)（和/英） | FDTD / FDTD |
| キーワード(3)（和/英） | 多周波共用 / Multi-Band Frequency |
| キーワード(4)（和/英） | パッチアンテナ / Patch Antenna |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 安井 裕史 / Hiroshi YASUI |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 武蔵工業大学 Faculty of Engineering, Musashi Institute of Technology |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 岡野 好伸 / Minoru ABE |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 武蔵工業大学 Faculty of Engineering, Musashi Institute of Technology |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 安部 實 / Masato TANI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 武蔵工業大学 Faculty of Engineering, Musashi Institute of Technology |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 谷 真佐人 / Yoshinobu OKANO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 大塚化学株式会社 OTSUKA Chemical Co., Ltd., |
| 発表年月日 | 2004/7/14 |
| 資料番号 | SAT2004-39 |
| 巻番号（vol） | vol.104 |
| 号番号（no） | 204 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |