講演名 2004/4/9
エキシマ・レーザによるシリコン結晶化の現状と展望(有機El, TFT,及び一般)
松尾 直人, 河本 直哉, 浜田 弘喜,
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抄録(和) アモルファス-Si (a-Si)をエキシマ・レーザにより結晶化した低温多結晶シリコン(polycrystalline silicon, poly-Si)薄膜に関し、主として筆者のグループで行って来た研究について解説する。 a-Si内の水素が結晶化に及ぼす効果、及びpoly-Si膜中の内部応力とグレインの関係について明らかにし、それらの現象を我々のグループで考案した結晶化モデルにより説明する。これらの結果を基にレーザ結晶化に関して展望を述べる.
抄録(英) Low-temperature polycrystalline-silicon (poly-Si) film recrystallized by excimer laser irradiation to amorphous-Si (a-Si) is reviewed. Effect of hydrogens in a-Si on crystallization of Si and relationship between the internal stress and grains are clarified and a new crystallization model is presented. Considering the present results, future trend of laser crystallization is discussed.
キーワード(和) エキシマ・レーザ・アニーリング / 多結晶シリコン / 水素 / 内部応力 / 二次元結晶成長
キーワード(英) excimer laser annealing / polycrystalline silicon / hydrogen / internal stress / secondary crystal growth
資料番号 ED2004-9,SDM2004-9,OME2004-9
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2004/4/9(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) エキシマ・レーザによるシリコン結晶化の現状と展望(有機El, TFT,及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Present and Future Stages of Silicon Crystallization by Excimer Laser Annealing
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) エキシマ・レーザ・アニーリング / excimer laser annealing
キーワード(2)(和/英) 多結晶シリコン / polycrystalline silicon
キーワード(3)(和/英) 水素 / hydrogen
キーワード(4)(和/英) 内部応力 / internal stress
キーワード(5)(和/英) 二次元結晶成長 / secondary crystal growth
第 1 著者 氏名(和/英) 松尾 直人 / Naoto MATSUO
第 1 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学大学院
Department of Material Science and Chemistry, University of Hyogo
第 2 著者 氏名(和/英) 河本 直哉 / Naoya KAWAMOTO
第 2 著者 所属(和/英) 山口大学工学部
Department of Electrical and Electric Engineering, Yamaguchi University
第 3 著者 氏名(和/英) 浜田 弘喜 / Hiroki HAMADA
第 3 著者 所属(和/英) 三洋電機(株)マテリアル・デバイス研究所
Material and Device Department Center, SANYO Electric Co., Ltd.
発表年月日 2004/4/9
資料番号 ED2004-9,SDM2004-9,OME2004-9
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 3
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日