講演名 2004/4/9
金属ゲート電極を利用したガラス上の自己整合ダブルゲートCLC poly-Si TFT(有機EL, TFT,及び一般)
原 明人, 竹井 美智子, 吉野 健一, 竹内 文代, 佐々木 伸夫,
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抄録(和) ガラス基板上に550℃のプロセス温度で金属ゲート電極を有する自己整合ダブルゲート多結晶シリコン(poly-Si)薄膜トランジスタ(TFT)を形成した。結晶化には半導体励起固体(DPSS)連続発振(CW)レーザによるCLC技術を利用した。本TFTの電流駆動能力は、トツプゲート型のエキシマレーザ結晶化poly-Si TFTの電流駆動能力の8-9倍を有する。さらに、単結晶の(100) SIMOX-TFTよりも大きい。また、89mV/decと小さいS値が得られた。これらの特性は、ガラス基板上への高性能回路の形成を導くものである。
抄録(英) Self-aligned top and bottom metal double gate (SAMDG) low-temperature polycrystalline silicon (poly-Si) thin film transistors (TFTs) were fabricated on non-alkali glass at 550℃, using the diode pumped solid state continuous wave laser lateral crystallization (CLC) method. lt was observed that the current drivability of SAMDG CLC poly-Si TFTs was eight or nine times as large as that of conventional top gate excimer laser crystallized poly-Si TFTs, and the nominal field-effect mobility of SAMDG CLC poly-Si TFT was larger than that of (100)-oriented single crystal SIMOX-TFTs. In addition, a steep sub-threshold value, 89mV/dec, was observed fbr SAMDG CLC poly-Si TFTs. The exceptional high performance of SAMDG CLC poly-Si TFTs will allow the production of inexpensive LSI circuits on non-alkali glass substrates.
キーワード(和) ダブルゲート / 薄膜トランジスタ / 多結晶シリコン / 結晶化 / ガラス
キーワード(英) double gate / thin film transistor / poly-Si / crystallization / glass
資料番号 ED2004-7,SDM2004-7,OME2004-7
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2004/4/9(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 金属ゲート電極を利用したガラス上の自己整合ダブルゲートCLC poly-Si TFT(有機EL, TFT,及び一般)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Self-Aligned Metal Double Gate CLC Poly-Si-TFT on Non-Alkali Glass Substrate
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) ダブルゲート / double gate
キーワード(2)(和/英) 薄膜トランジスタ / thin film transistor
キーワード(3)(和/英) 多結晶シリコン / poly-Si
キーワード(4)(和/英) 結晶化 / crystallization
キーワード(5)(和/英) ガラス / glass
第 1 著者 氏名(和/英) 原 明人 / Akito Hara
第 1 著者 所属(和/英) (株)富士通研究所
Fujitsu Laboratories Limited
第 2 著者 氏名(和/英) 竹井 美智子 / Michiko Takei
第 2 著者 所属(和/英) (株)富士通研究所
Fujitsu Laboratories Limited
第 3 著者 氏名(和/英) 吉野 健一 / Kennichi Yoshino
第 3 著者 所属(和/英) (株)富士通研究所
Fujitsu Laboratories Limited
第 4 著者 氏名(和/英) 竹内 文代 / Fumiyo Takeuchi
第 4 著者 所属(和/英) (株)富士通研究所
Fujitsu Laboratories Limited
第 5 著者 氏名(和/英) 佐々木 伸夫 / Nobuo Sasaki
第 5 著者 所属(和/英) (株)富士通研究所
Fujitsu Laboratories Limited
発表年月日 2004/4/9
資料番号 ED2004-7,SDM2004-7,OME2004-7
巻番号(vol) vol.104
号番号(no) 3
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日