講演名 | 2004/4/9 金属ゲート電極を利用したガラス上の自己整合ダブルゲートCLC poly-Si TFT(有機EL, TFT,及び一般) 原 明人, 竹井 美智子, 吉野 健一, 竹内 文代, 佐々木 伸夫, |
---|---|
PDFダウンロードページ | PDFダウンロードページへ |
抄録(和) | ガラス基板上に550℃のプロセス温度で金属ゲート電極を有する自己整合ダブルゲート多結晶シリコン(poly-Si)薄膜トランジスタ(TFT)を形成した。結晶化には半導体励起固体(DPSS)連続発振(CW)レーザによるCLC技術を利用した。本TFTの電流駆動能力は、トツプゲート型のエキシマレーザ結晶化poly-Si TFTの電流駆動能力の8-9倍を有する。さらに、単結晶の(100) SIMOX-TFTよりも大きい。また、89mV/decと小さいS値が得られた。これらの特性は、ガラス基板上への高性能回路の形成を導くものである。 |
抄録(英) | Self-aligned top and bottom metal double gate (SAMDG) low-temperature polycrystalline silicon (poly-Si) thin film transistors (TFTs) were fabricated on non-alkali glass at 550℃, using the diode pumped solid state continuous wave laser lateral crystallization (CLC) method. lt was observed that the current drivability of SAMDG CLC poly-Si TFTs was eight or nine times as large as that of conventional top gate excimer laser crystallized poly-Si TFTs, and the nominal field-effect mobility of SAMDG CLC poly-Si TFT was larger than that of (100)-oriented single crystal SIMOX-TFTs. In addition, a steep sub-threshold value, 89mV/dec, was observed fbr SAMDG CLC poly-Si TFTs. The exceptional high performance of SAMDG CLC poly-Si TFTs will allow the production of inexpensive LSI circuits on non-alkali glass substrates. |
キーワード(和) | ダブルゲート / 薄膜トランジスタ / 多結晶シリコン / 結晶化 / ガラス |
キーワード(英) | double gate / thin film transistor / poly-Si / crystallization / glass |
資料番号 | ED2004-7,SDM2004-7,OME2004-7 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | ED |
---|---|
開催期間 | 2004/4/9(から1日開催) |
開催地(和) | |
開催地(英) | |
テーマ(和) | |
テーマ(英) | |
委員長氏名(和) | |
委員長氏名(英) | |
副委員長氏名(和) | |
副委員長氏名(英) | |
幹事氏名(和) | |
幹事氏名(英) | |
幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Electron Devices (ED) |
---|---|
本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 金属ゲート電極を利用したガラス上の自己整合ダブルゲートCLC poly-Si TFT(有機EL, TFT,及び一般) |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Self-Aligned Metal Double Gate CLC Poly-Si-TFT on Non-Alkali Glass Substrate |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | ダブルゲート / double gate |
キーワード(2)(和/英) | 薄膜トランジスタ / thin film transistor |
キーワード(3)(和/英) | 多結晶シリコン / poly-Si |
キーワード(4)(和/英) | 結晶化 / crystallization |
キーワード(5)(和/英) | ガラス / glass |
第 1 著者 氏名(和/英) | 原 明人 / Akito Hara |
第 1 著者 所属(和/英) | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories Limited |
第 2 著者 氏名(和/英) | 竹井 美智子 / Michiko Takei |
第 2 著者 所属(和/英) | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories Limited |
第 3 著者 氏名(和/英) | 吉野 健一 / Kennichi Yoshino |
第 3 著者 所属(和/英) | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories Limited |
第 4 著者 氏名(和/英) | 竹内 文代 / Fumiyo Takeuchi |
第 4 著者 所属(和/英) | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories Limited |
第 5 著者 氏名(和/英) | 佐々木 伸夫 / Nobuo Sasaki |
第 5 著者 所属(和/英) | (株)富士通研究所 Fujitsu Laboratories Limited |
発表年月日 | 2004/4/9 |
資料番号 | ED2004-7,SDM2004-7,OME2004-7 |
巻番号(vol) | vol.104 |
号番号(no) | 3 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |