講演名 2003/4/8
シランプラズマ中のクラスタ成長と薄膜形成(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
白谷 正治, 古閑 一憲, 尾形 隆則, 掛谷 知秀, 鹿口 直斗, 渡辺 征夫,
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抄録(和) a-Si:H形成に用いられるシランプラズマ中のクラスタ量は放電周波数の高周波化、H_2希釈で激減する。クラスタ量を減らすと、膜の微細構造パラメータが小さくなり高い曲線因子を実現できる。
抄録(英) Cluster amount in silane plasmas employed for a-Si:H deposition can be reduced significantly by increasing discharging frequency or diluting with H_2 gas. Reduction of cluster amount brings about the decrease in a microstructure parameter of a-Si:H films, leading to the increase in a high fill factor.
キーワード(和) クラスタ / アモルファスシリコン / シランプラズマ / 結晶ナノクラスタ
キーワード(英) Cluster / Amorphous Silicon / Silane Plasma / Crystal Nano-Cluster
資料番号 ED2003-14,SDM2003-14,OME2003-14
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2003/4/8(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) シランプラズマ中のクラスタ成長と薄膜形成(有機ELとTFT(シリコン、化合物、有機)及びディスプレイ技術)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Growth of Clusters in Silane Plasmas and Their Relation to Deposition of Thin Films
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) クラスタ / Cluster
キーワード(2)(和/英) アモルファスシリコン / Amorphous Silicon
キーワード(3)(和/英) シランプラズマ / Silane Plasma
キーワード(4)(和/英) 結晶ナノクラスタ / Crystal Nano-Cluster
第 1 著者 氏名(和/英) 白谷 正治 / M. SHIRATANI
第 1 著者 所属(和/英) 九州大学システム情報科学研究院
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
第 2 著者 氏名(和/英) 古閑 一憲 / K. KOGA
第 2 著者 所属(和/英) 九州大学システム情報科学研究院
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
第 3 著者 氏名(和/英) 尾形 隆則 / T. OGATA
第 3 著者 所属(和/英) 九州大学システム情報科学研究院
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
第 4 著者 氏名(和/英) 掛谷 知秀 / T. KAKEYA
第 4 著者 所属(和/英) 九州大学システム情報科学研究院
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
第 5 著者 氏名(和/英) 鹿口 直斗 / N. KAGUCHI
第 5 著者 所属(和/英) 九州大学システム情報科学研究院
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
第 6 著者 氏名(和/英) 渡辺 征夫 / Y. WATANABE
第 6 著者 所属(和/英) 九州大学システム情報科学研究院
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering, Kyushu University
発表年月日 2003/4/8
資料番号 ED2003-14,SDM2003-14,OME2003-14
巻番号(vol) vol.103
号番号(no) 4
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日