講演名 2002/5/17
GeC/SiへのC取り込みに対する低温成長とIBADの効果(<小特集>III族窒化物研究の最前線)
沖仲 元毅, 宮武 耕志, 浜名 康全, 徳田 崇, 太田 淳, 布下 正宏,
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抄録(和) GeC/Si(001)の置換位置C組成増大を目的として、MBE法による非平衡結晶成長を強調するために、成長温度の低温化とAr^+イオン照射によるIBAD(Ion Beam Assisted Deposition)を試みた。XRDとラマン分光測定の結果から成長温度の低温化が置換位置C組成増大だけでなく、Cクラスターの抑制に効果があることがわかった。多結晶化した成長温度T_s≤350℃でも高い置換位置C組成を得た。IBADの効果として、Af^+イオンの加速電圧が200Vのとき置換位置C組成の増大と結晶性の向上が可能であった。
抄録(英) The effects of low temperature growth and ion beam assisted deposition (IBAD) on C incorporation into MBE growth GeC/Si (001) substrates were investigated. By decreasing the growth temperature, substitutional C composition increased and the formation of C clusters was suppressed. By means of IBAD, the Ar^+ ion bombardment at bias voltage V_b=200V induces both increase of substitutional C composition and better crystalline quality. For V_b≥400V the crystalline quality deteriorated. Lower growth temperature and IBAD with an appropriate V_b were effective to increase substitutional C compositionin in GeC epilayers.
キーワード(和) GeC / アークプラズマガン / Cクラスター / ラマンシフト / IBAD(Ion Beam AssistedD Deposition)
キーワード(英) GeC / Arc plasma gun / C cluster / Raman shift / IBAD (Ion Beam Assisted Deposition)
資料番号 ED2002-37
発行日

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2002/5/17(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Electron Devices (ED)
本文の言語 JPN
タイトル(和) GeC/SiへのC取り込みに対する低温成長とIBADの効果(<小特集>III族窒化物研究の最前線)
サブタイトル(和)
タイトル(英) The effects of low temperature growth and IBAD on C incorporation into GeC epilayers on Si(001)substrates
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) GeC / GeC
キーワード(2)(和/英) アークプラズマガン / Arc plasma gun
キーワード(3)(和/英) Cクラスター / C cluster
キーワード(4)(和/英) ラマンシフト / Raman shift
キーワード(5)(和/英) IBAD(Ion Beam AssistedD Deposition) / IBAD (Ion Beam Assisted Deposition)
第 1 著者 氏名(和/英) 沖仲 元毅 / M OKINAKA
第 1 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
第 2 著者 氏名(和/英) 宮武 耕志 / K MIYATAKE
第 2 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
第 3 著者 氏名(和/英) 浜名 康全 / Y HAMANA
第 3 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
第 4 著者 氏名(和/英) 徳田 崇 / T TOKUDA
第 4 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
第 5 著者 氏名(和/英) 太田 淳 / J OHTA
第 5 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
第 6 著者 氏名(和/英) 布下 正宏 / M NUNOSHITA
第 6 著者 所属(和/英) 奈良先端科学技術大学院大学物質創成科学研究科
Graduate School of Materials Science, Nara Institute of Science and Technology
発表年月日 2002/5/17
資料番号 ED2002-37
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 77
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日