| 講演名 | 2003/5/8 リモートプラズマMOCVDによるZnOの成長(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料)) 中村 篤志, 清水 克美, 青木 徹, 天明 二郎, |
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| 抄録(和) | リモートプラズマMOCVD法により酸素プラズマを用いてジエチル亜鉛(DEZn)からZnOを成長させた。有機原料DEZnのキャリアガスとして水素と窒素を用いた場合、ZnOの成長速度に違いがみられ、水素キャリアを用いた場合に成長速度が大きくなった。また、水素ガス流量とプラズマ酸素流量の割合によっても成長速度が変化した。結晶成長時のプラズマ発光スペクトルを測定した結果から、酸素プラズマと水素ガスによる相互作用による活性化学種により成長速度の増加と結品性が向上する要因がわかった。 |
| 抄録(英) | ZnO has been grown by a remote plasma enhanced MOCVD technique using Oxygen plasma from Diethyl Zinc (DEZn). When hydrogen and nitrogen were used as carrier gas, the difference was looked at by the growth rate of ZnO film, and growth rate became large when a hydrogen carrier was used. Moreover, growth rate changed also with the rates of hydrogen gas flux and plasma oxygen flux. From the result which measured the plasma luminescence spectrum at the time of crystal growth, the growth factor by the interaction by oxygen plasma and hydrogen gas was proposed. |
| キーワード(和) | リモートプラズマMOCVD / 酸素プラズマ / ZnO / プラズマスペクトル |
| キーワード(英) | remote plasma enhanced MOCVD / Oxygen plasma / ZnO / plasma spectrum |
| 資料番号 | ED2003-17,CPM2003-16,SDM2003-17 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2003/5/8(から1日開催) |
| 開催地（和） | |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
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| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | リモートプラズマMOCVDによるZnOの成長(結晶成長評価及びデバイス(化合物,Si,SiGe,その他の電子材料)) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | ZnO growth using remote plasma MOCVD |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | リモートプラズマMOCVD / remote plasma enhanced MOCVD |
| キーワード(2)（和/英） | 酸素プラズマ / Oxygen plasma |
| キーワード(3)（和/英） | ZnO / ZnO |
| キーワード(4)（和/英） | プラズマスペクトル / plasma spectrum |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 中村 篤志 / Atsushi NAKAMURA |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院電子科学研究科 Graduate School of Electronic Science of Technology, Shizuoka University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 清水 克美 / Yoshimi SHIMIZU |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院電子科学研究科 Graduate School of Electronic Science of Technology, Shizuoka University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 青木 徹 / Toru AOKI |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院電子科学研究科 Graduate School of Electronic Science of Technology, Shizuoka University |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 天明 二郎 / Jiro EMMYO |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 静岡大学大学院電子科学研究科:静岡大学電子工学研究所 Graduate School of Electronic Science of Technology, Shizuoka University:Research Institute of Electronics, Shizuoka University |
| 発表年月日 | 2003/5/8 |
| 資料番号 | ED2003-17,CPM2003-16,SDM2003-17 |
| 巻番号（vol） | vol.103 |
| 号番号（no） | 48 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |