| 講演名 | 2003/7/25 ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO_2膜の高速堆積(電子部品・材料, 及び一般) 石井 清, 黒川 和成, 吉原 佐知雄, |
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| 抄録(和) | ガスフロースパッタ法を用いることにより、高い光触媒活性を有するTiO_2薄膜を作製することができた。ガスフロースパッタ法とは、100Pa程度の高い圧力下で高速の成膜が行えるスパッタ法であり、PVDとCVDの両者の特徴を兼ね備えた成膜法である。本研究では、純チタンのパイプ状のターゲットを用い、酸素ガスを基板面上に直接加えることにより、安定なスパッタ成膜が行えた。このことは、ターゲット面の酸化をさせずに十分な酸素を供給できることを示している。そして、80nm/minの堆積速度で安定にTiO_2薄膜が堆積できた.膜の構造と光触媒活性は供給する酸素ガス量に強く依存し、スパッタガスであるArを300sccmの時、酸素ガスを0.5sccm程度加えると非常に高い活性を有する薄膜が得られることが明らかになった。さらに、キセノンランプの照射下でのアセトアルデヒドの分解速度は、アナターゼ型の粉末と同程度を示すことがわかった。 |
| 抄録(英) | Titanium dioxide (TiO_2) films with photocatalytic activities were prepared by reactive gas flow sputtering (GFS). GFS is a high-pressure sputtering at about 100 Pa enabling high deposition rates, and it has characteristics between PVD and CVD. A pure Ti tube was used as the target and the oxygen gas was supplied in front of the substrate. A stable sputter-deposition was carried out at a deposition rate of 80 nm/min. The crystal structure and morphology of TiO_2 films were found to strongly depend on the flow rate of oxygen gas. Polycrystalline films composed of rutile and anatase crystallites were deposited at a low flow rate of oxygen gas less than 2 sccm, where Ar flow rate was set at 300 sccm, and amorphous films were produced at the higher flow rates of oxygen gas. Polycrystalline films showed superior photocatalytic activities, while amorphous films were not photocatalytic. |
| キーワード(和) | 酸化チタン薄膜 / 光触媒 / 光触媒薄膜 / スパツタTiO_2薄膜 / ガスフロースパッタ法 / 反応性ガスフロースパッタ法 |
| キーワード(英) | titanium dioxide film / photocatalytic film / sputtered TiO_2 film / gas flow sputtering / reactive gas flow sputtering |
| 資料番号 | CPM2003-70 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2003/7/25(から1日開催) |
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| テーマ（和） | |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | |
| 委員長氏名（英） | |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | |
| 幹事氏名（英） | |
| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ガスフロースパッタ法による高い光触媒活性を有するTiO_2膜の高速堆積(電子部品・材料, 及び一般) |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Preparation of TiO_2 Films with High Photocatalytic Activities by Gas Flow Sputtering |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 酸化チタン薄膜 / titanium dioxide film |
| キーワード(2)（和/英） | 光触媒 / photocatalytic film |
| キーワード(3)（和/英） | 光触媒薄膜 / sputtered TiO_2 film |
| キーワード(4)（和/英） | スパツタTiO_2薄膜 / gas flow sputtering |
| キーワード(5)（和/英） | ガスフロースパッタ法 / reactive gas flow sputtering |
| キーワード(6)（和/英） | 反応性ガスフロースパッタ法 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 石井 清 / Kiyoshi ISHII |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 宇都宮大学工学部 Faculty of Engineering, Utsunomiya University |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 黒川 和成 / Kazunari KUROKAWA |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 宇都宮大学工学部 Faculty of Engineering, Utsunomiya University |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 吉原 佐知雄 / Sachio YOSIHARA |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 宇都宮大学大学院 Graduate School of Engineering, Utsunomiya University |
| 発表年月日 | 2003/7/25 |
| 資料番号 | CPM2003-70 |
| 巻番号（vol） | vol.103 |
| 号番号（no） | 245 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | |