| 講演名 | 2003/2/21 電子ビーム記録装置を用いた高精度記録 小島 良明, 杉本 達哉, 加園 修, 勝村 昌広, 飯田 哲哉, |
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| 抄録(和) | ハイビジョン映像を2時間以上記録するために,次世代光ディスクには23GB以上の記録密度が要求される。このような高密度光ディスクは,狭トラックピッチでより短いマーク長で記録しなければならないため,高解像度かつ高精度なマスタリング装置が必要となる。そのために我々は電子ビーム記録装置(Electron Beam Recorder:EBR)を開発した。記録位置精度向上のためのいくつかの改良を行い,ピッチむらの向上を確認した。また,スパイラル記録において100nmピッチの記録を実現した。 |
| 抄録(英) | A next generation optical disk is required to have over 23 GB recording capacity for over 2 hour storage of digital high-definition television data. Because a track pitch becomes narrower for such a large capacity disk, high resolution and high accuracy mastering system is required. To realize this objective, we have developed an electron beam recorder (EBR) and have been studying to fabricate master stampers for the next generation optical disk and for future optical disks. In this paper, we report an investigation of recording positional accuracy in the EBR and a trial for improvement. |
| キーワード(和) | 光ディスク / マスタリング / 電子ビーム記録装置 / トラックピッチ / 記録位置精度 |
| キーワード(英) | Optical disk / Mastering / Electron beam recorder / Track pitch / Recording positional accuracy |
| 資料番号 | CPM2002-171 |
| 発行日 |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2003/2/21(から1日開催) |
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| 委員長氏名（和） | |
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| 幹事補佐氏名（和） | |
| 幹事補佐氏名（英） | |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 電子ビーム記録装置を用いた高精度記録 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | High Accuracy Mastering Using an Electron Beam Recorder |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 光ディスク / Optical disk |
| キーワード(2)（和/英） | マスタリング / Mastering |
| キーワード(3)（和/英） | 電子ビーム記録装置 / Electron beam recorder |
| キーワード(4)（和/英） | トラックピッチ / Track pitch |
| キーワード(5)（和/英） | 記録位置精度 / Recording positional accuracy |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小島 良明 / Y. Kojima |
| 第 1 著者 所属（和/英） | パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部第一研究室 Nano Process Technology Department,Corporate Research & Development Laboratories PIONEER Corporation |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 杉本 達哉 / T. Sugimoto |
| 第 2 著者 所属（和/英） | パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部第一研究室 Nano Process Technology Department,Corporate Research & Development Laboratories PIONEER Corporation |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 加園 修 / O. Kasono |
| 第 3 著者 所属（和/英） | パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部第一研究室 Nano Process Technology Department,Corporate Research & Development Laboratories PIONEER Corporation |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 勝村 昌広 / M. Katsumura |
| 第 4 著者 所属（和/英） | パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部第一研究室 Nano Process Technology Department,Corporate Research & Development Laboratories PIONEER Corporation |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 飯田 哲哉 / T. Iida |
| 第 5 著者 所属（和/英） | パイオニア株式会社総合研究所ナノプロセス研究部第一研究室 Nano Process Technology Department,Corporate Research & Development Laboratories PIONEER Corporation |
| 発表年月日 | 2003/2/21 |
| 資料番号 | CPM2002-171 |
| 巻番号（vol） | vol.102 |
| 号番号（no） | 664 |
| ページ範囲 | pp.- |
| ページ数 | 5 |
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