講演名 | 2002/11/6 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCuAlO_2薄膜の作製と評価 伊藤 雄二, 高橋 良和, 坪井 望, 小林 敏志, 清水 英彦, 加藤 景三, 金子 双男, |
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抄録(和) | CuとAlの金属単体をターゲットに用いた対向ターゲット式反応性スパッタ法によりCuAlO_2薄膜を作製した。基板温度300℃で作製した薄膜はアモルファス構造であったため、窒素雰囲気中で4時間の熱処理を行ったところ、700℃以上で熱処理した[Cu]/[Al]≒1の薄膜においてp型伝導を示すデラフォサイト型CuAl0_2透明薄膜が得られた。熱処理後の薄膜において、[Cu]/[Al]モル比の変化に伴う基礎吸収端のシフトは、CuAlO_2相に混在する酸化銅や酸化アルミニウムによる影響と考えられる。さらに、基板温度を700℃にして、薄膜の作製も行った。 |
抄録(英) | The composition and the structure of the CuAlO_2 films, deposited through the dc-reactive sputtering method using Cu and Al elemental targets and Ar-diluted oxygen gas, were controlled by the Cu and Al deposition periods and the postannealing temperature. The delafossite stoichiometric CuAlO_2 films were successfully prepared by the postannealing of the films with [Cu]/[Al]≒ 1 at temperatures higher than 700℃ in the nitrogen atmosphere. The shifts of the optical absorption edge in the off-stoichiometric films are interpretable to be due to the additional copper oxide or aluminum oxide phase. |
キーワード(和) | CuAlO_2薄膜 / デラフォサイト構造 / 反応性スパッタ / p-タイプ / 透明導電性酸化物 |
キーワード(英) | CuAlO_2 films / The delafossite structure / Reactive spattering / Transparent conducting oxide / p-type |
資料番号 | CPM2002-115 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 2002/11/6(から1日開催) |
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講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCuAlO_2薄膜の作製と評価 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Preparation and evaluation of CuAlO_2 films by the facing targets spattering method |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | CuAlO_2薄膜 / CuAlO_2 films |
キーワード(2)(和/英) | デラフォサイト構造 / The delafossite structure |
キーワード(3)(和/英) | 反応性スパッタ / Reactive spattering |
キーワード(4)(和/英) | p-タイプ / Transparent conducting oxide |
キーワード(5)(和/英) | 透明導電性酸化物 / p-type |
第 1 著者 氏名(和/英) | 伊藤 雄二 / Yuji ITOH |
第 1 著者 所属(和/英) | 新潟大学大学院自然科学研究科 Graduate School of Science and Technology, Niigata University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 高橋 良和 / Yoshikazu TAKAHASHI |
第 2 著者 所属(和/英) | 新潟大学大学院自然科学研究科 Graduate School of Science and Technology, Niigata University |
第 3 著者 氏名(和/英) | 坪井 望 / Nozomu TUBOI |
第 3 著者 所属(和/英) | 新潟大学工学部 Faculty of Engineering, Niigata University |
第 4 著者 氏名(和/英) | 小林 敏志 / Satoshi KOBAYASHI |
第 4 著者 所属(和/英) | 新潟大学工学部 Faculty of Engineering, Niigata University |
第 5 著者 氏名(和/英) | 清水 英彦 / Hidehiko SHIMIZU |
第 5 著者 所属(和/英) | 新潟大学工学部 Faculty of Engineering, Niigata University |
第 6 著者 氏名(和/英) | 加藤 景三 / Keizou KATOH |
第 6 著者 所属(和/英) | 新潟大学工学部 Faculty of Engineering, Niigata University |
第 7 著者 氏名(和/英) | 金子 双男 / Futao KANEKO |
第 7 著者 所属(和/英) | 新潟大学工学部 Faculty of Engineering, Niigata University |
発表年月日 | 2002/11/6 |
資料番号 | CPM2002-115 |
巻番号(vol) | vol.102 |
号番号(no) | 434 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 6 |
発行日 |