講演名 2002/11/6
対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCuAlO_2薄膜の作製と評価
伊藤 雄二, 高橋 良和, 坪井 望, 小林 敏志, 清水 英彦, 加藤 景三, 金子 双男,
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抄録(和) CuとAlの金属単体をターゲットに用いた対向ターゲット式反応性スパッタ法によりCuAlO_2薄膜を作製した。基板温度300℃で作製した薄膜はアモルファス構造であったため、窒素雰囲気中で4時間の熱処理を行ったところ、700℃以上で熱処理した[Cu]/[Al]≒1の薄膜においてp型伝導を示すデラフォサイト型CuAl0_2透明薄膜が得られた。熱処理後の薄膜において、[Cu]/[Al]モル比の変化に伴う基礎吸収端のシフトは、CuAlO_2相に混在する酸化銅や酸化アルミニウムによる影響と考えられる。さらに、基板温度を700℃にして、薄膜の作製も行った。
抄録(英) The composition and the structure of the CuAlO_2 films, deposited through the dc-reactive sputtering method using Cu and Al elemental targets and Ar-diluted oxygen gas, were controlled by the Cu and Al deposition periods and the postannealing temperature. The delafossite stoichiometric CuAlO_2 films were successfully prepared by the postannealing of the films with [Cu]/[Al]≒ 1 at temperatures higher than 700℃ in the nitrogen atmosphere. The shifts of the optical absorption edge in the off-stoichiometric films are interpretable to be due to the additional copper oxide or aluminum oxide phase.
キーワード(和) CuAlO_2薄膜 / デラフォサイト構造 / 反応性スパッタ / p-タイプ / 透明導電性酸化物
キーワード(英) CuAlO_2 films / The delafossite structure / Reactive spattering / Transparent conducting oxide / p-type
資料番号 CPM2002-115
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2002/11/6(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 対向ターゲット式反応性スパッタ法によるCuAlO_2薄膜の作製と評価
サブタイトル(和)
タイトル(英) Preparation and evaluation of CuAlO_2 films by the facing targets spattering method
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) CuAlO_2薄膜 / CuAlO_2 films
キーワード(2)(和/英) デラフォサイト構造 / The delafossite structure
キーワード(3)(和/英) 反応性スパッタ / Reactive spattering
キーワード(4)(和/英) p-タイプ / Transparent conducting oxide
キーワード(5)(和/英) 透明導電性酸化物 / p-type
第 1 著者 氏名(和/英) 伊藤 雄二 / Yuji ITOH
第 1 著者 所属(和/英) 新潟大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Niigata University
第 2 著者 氏名(和/英) 高橋 良和 / Yoshikazu TAKAHASHI
第 2 著者 所属(和/英) 新潟大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Niigata University
第 3 著者 氏名(和/英) 坪井 望 / Nozomu TUBOI
第 3 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 4 著者 氏名(和/英) 小林 敏志 / Satoshi KOBAYASHI
第 4 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 5 著者 氏名(和/英) 清水 英彦 / Hidehiko SHIMIZU
第 5 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 6 著者 氏名(和/英) 加藤 景三 / Keizou KATOH
第 6 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
第 7 著者 氏名(和/英) 金子 双男 / Futao KANEKO
第 7 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Niigata University
発表年月日 2002/11/6
資料番号 CPM2002-115
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 434
ページ範囲 pp.-
ページ数 6
発行日