講演名 2002/11/6
CS_2ガスを用いた反応性スパッタ法によるCuInS_2薄膜の組成制御
計良 忍, 小林 敏志, 坪井 望,
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和) 薄膜太陽電池の光吸収材料として期待されるCuInS_2薄膜を、Cu/Inターゲット面積比とCS_2ガス分圧を変化させ、反応性スパッタ法により基板温度100℃で作製した。[Cu]/[In]組成比は、Cu/Inターゲット面積比に比例し、CS_2ガス分圧にあまり依存しなかった。[S]/([Cu]+[In])組成は、Cu/Inターゲット面積比の増加と共に減少する傾向があり、CS_2ガス分圧の増加に伴いやや増加した。CS_2ガス分圧が低い膜ではアモルファスであり、高い膜には、CuInS_2(112)面のX線回折強度が強いものがあった。組成の良好な膜でも、吸収端は810nmより波長側にあった。すべての薄膜はp形で、抵抗率はCu/Inターゲット面積比の増加に伴い低下した。
抄録(英) CuInS_2 thin films were prepared by the reactive sputtering method using CS_2 gas under the various the target area ratio and CS_2 gas partial pressure were investigated. It was found that the [Cu]/[In] composition ratio proportionaly increased, and the [S]/([Cu]+[In]) composition ratio slightly decreased with increasing Cu/In target area ratio. The strong CuInS_2(112) X-ray intensity was found in films deposited under high CS_2 gas partial pressure of 0.20×10^-3Torr and 0.25×10^-3Torr. The transmission rised at shorter wavelength than the bulk absorption edge of 810nm. All films were p-type and their resistivity decresed with increasing Cu/In target area ratio.
キーワード(和) 反応性スパッタ / CuInS_2 / 薄膜
キーワード(英) reactive sputtering / CuInS_2 / thin films
資料番号 CPM2002-113
発行日

研究会情報
研究会 CPM
開催期間 2002/11/6(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Component Parts and Materials (CPM)
本文の言語 JPN
タイトル(和) CS_2ガスを用いた反応性スパッタ法によるCuInS_2薄膜の組成制御
サブタイトル(和)
タイトル(英) Composition Control of CuInS_2 Thin Films Prepared by the Reactive Sputtering Method Using CS_2 Gas
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 反応性スパッタ / reactive sputtering
キーワード(2)(和/英) CuInS_2 / CuInS_2
キーワード(3)(和/英) 薄膜 / thin films
第 1 著者 氏名(和/英) 計良 忍 / Shinobu KERA
第 1 著者 所属(和/英) 新潟大学大学院自然科学研究科
Graduate School of Science and Technology, Nigata University
第 2 著者 氏名(和/英) 小林 敏志 / Satoshi KOBAYASHI
第 2 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Nigata University
第 3 著者 氏名(和/英) 坪井 望 / Nozomu TUBOI
第 3 著者 所属(和/英) 新潟大学工学部
Faculty of Engineering, Nigata University
発表年月日 2002/11/6
資料番号 CPM2002-113
巻番号(vol) vol.102
号番号(no) 434
ページ範囲 pp.-
ページ数 5
発行日