講演名 | 2002/11/6 スパッタ法によるTaN抵抗体薄膜と電極との接触抵抗 小畑 元樹, 作田 輝之, 林部 林平, 上村 喜一, |
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抄録(和) | スパッタ法により作製したTaN薄膜抵抗と電極の接触抵抗を測定した。電極形状を一定にしたまま抵抗体の長さを変えることにより、電極部分の抵抗と抵抗体自体の抵抗とをそれぞれ独立に評価した。電送線路モデル(TLM:Transmission Line Model)により、TaN薄膜と電極との固有接触抵抗とその温度係数を求め、堆積条件との関係を検討した。電極部分の抵抗は、抵抗体部分の面抵抗の1/10程度の値を持ち、精密な値の薄膜抵抗を作製する場合には考慮する必要があることが示された。固有接触抵抗は、薄膜の窒素濃度に依存し、およそ10^-8Ω/m^2のオーダーであった。 |
抄録(英) | Tantarium nitride thin film was deposited by reactive sputtering. Samples with different length was used to estimate the contact resistance and the resistance of TaN film saparately. Specific contact resistivity between electrode and TaN thin film resistor was determined by TLM (Transmission Line Model) method. The resistance of the electrode was about 1/10 of the sheet resistance of TaN film. The value of specific contact resistivity was the order of 10^-8Ω/m^2. |
キーワード(和) | TaN / 接触抵抗 / 固有接触抵抗率 / TCR |
キーワード(英) | TaN / contact resistance / Specific contact resistivity / TCR |
資料番号 | CPM2002-112 |
発行日 |
研究会情報 | |
研究会 | CPM |
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開催期間 | 2002/11/6(から1日開催) |
開催地(和) | |
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幹事補佐氏名(和) | |
幹事補佐氏名(英) |
講演論文情報詳細 | |
申込み研究会 | Component Parts and Materials (CPM) |
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本文の言語 | JPN |
タイトル(和) | スパッタ法によるTaN抵抗体薄膜と電極との接触抵抗 |
サブタイトル(和) | |
タイトル(英) | Contact Resistance between Electrode and TaN Thin Film Resistor Deposited by Sputtering |
サブタイトル(和) | |
キーワード(1)(和/英) | TaN / TaN |
キーワード(2)(和/英) | 接触抵抗 / contact resistance |
キーワード(3)(和/英) | 固有接触抵抗率 / Specific contact resistivity |
キーワード(4)(和/英) | TCR / TCR |
第 1 著者 氏名(和/英) | 小畑 元樹 / Motoki OBATA |
第 1 著者 所属(和/英) | 信州大学工学部電気電子工学科 Department of Electric and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Shinshu University |
第 2 著者 氏名(和/英) | 作田 輝之 / Teruyuki SAKUDA |
第 2 著者 所属(和/英) | 信州大学工学部電気電子工学科 Department of Electric and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Shinshu University |
第 3 著者 氏名(和/英) | 林部 林平 / Rinpei HAYASHIBE |
第 3 著者 所属(和/英) | 信州大学工学部電気電子工学科 Department of Electric and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Shinshu University |
第 4 著者 氏名(和/英) | 上村 喜一 / Kiichi KAMIMURA |
第 4 著者 所属(和/英) | 信州大学工学部電気電子工学科 Department of Electric and Electronic Engineering, Faculty of Engineering, Shinshu University |
発表年月日 | 2002/11/6 |
資料番号 | CPM2002-112 |
巻番号(vol) | vol.102 |
号番号(no) | 434 |
ページ範囲 | pp.- |
ページ数 | 4 |
発行日 |