講演名 2004/1/23
赤外波長光源を用いたMgOドーププロトン交換LN光導波路の光損傷測定(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
大井 孝紀, 大塚 由紀子, 藤井 陽一,
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抄録(和) MgOドーププロトン交換LN光導波路は、光損傷(フォトリフラクティブ効果)に比較的強いため、信頼性の大きいデバイス作製が可能であり、光情報処理分野等への期待が高まっている。これまで光損傷は可視光領域において問題視されていたが、通信波長(1550nm帯)用の光デバイスに用いられる光源のパワーの増大等から、赤外波長領域においても光損傷が問題になりつつある。我々はMgOドープしたLN結晶上にプロトン交換(PE)層を作製した試料、さらにこれをアニール処理した試料について、赤外波長レーザ(I550nm)を用いて、光損傷特性の実験的研究を行った。
抄録(英) The proton-exchanged waveguide formed on MgO-doped lithium niobate (LN) Crystals is expected to be resistant to optical damage (photorefractive effect). So this crystal is the attractive material for optical information and processing applications. So far, the optical damage has been an important problem in the visible region. The optical damage will be also important problem in the information wavelength region (1550 nm range) because of the high-power optical source is used for the optical devices. In this report, the photorefractive effect in the proton-exchanged waveguide formed on the MgO-doped LN used by infrared wavelength laser (1550 nm) is investigated.
キーワード(和) 光導波路 / ニオブ酸リチウム / 光損傷効果 / プロトン交換 / 赤外波長
キーワード(英) optical waveguide / lithium niobate / photorefractive effect / proton-exchange / infrared wavelength
資料番号 PN2003-83,OFT2003-105,OPE2003-262,LQE2003-199
発行日

研究会情報
研究会 OFT
開催期間 2004/1/23(から1日開催)
開催地(和)
開催地(英)
テーマ(和)
テーマ(英)
委員長氏名(和)
委員長氏名(英)
副委員長氏名(和)
副委員長氏名(英)
幹事氏名(和)
幹事氏名(英)
幹事補佐氏名(和)
幹事補佐氏名(英)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Optical Fiber Technology (OFT)
本文の言語 JPN
タイトル(和) 赤外波長光源を用いたMgOドーププロトン交換LN光導波路の光損傷測定(フォトニックNW・デバイス,フォトニック結晶・ファイバとその応用,集積光回路,半導体光導波路素子,PLC,ファイバ型デバイス,導波路解析,その他)
サブタイトル(和)
タイトル(英) Measurement of Optical Damage for Infrared Wavelength in Proton-Exchanged Waveguides Formed on MgO-doped LN Crystals
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) 光導波路 / optical waveguide
キーワード(2)(和/英) ニオブ酸リチウム / lithium niobate
キーワード(3)(和/英) 光損傷効果 / photorefractive effect
キーワード(4)(和/英) プロトン交換 / proton-exchange
キーワード(5)(和/英) 赤外波長 / infrared wavelength
第 1 著者 氏名(和/英) 大井 孝紀 / Takanori OI
第 1 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部電子情報工学科
Department of Electoronics and Computer Science, Coll.Sci.Tech., Nihon University
第 2 著者 氏名(和/英) 大塚 由紀子 / Yukiko OTSUKA
第 2 著者 所属(和/英) 東京大学生産技術研究所
The Institute of Industial Science, University of Tokyo
第 3 著者 氏名(和/英) 藤井 陽一 / Yoichi FUJII
第 3 著者 所属(和/英) 日本大学理工学部電子情報工学科
Department of Electoronics and Computer Science, Coll.Sci.Tech., Nihon University
発表年月日 2004/1/23
資料番号 PN2003-83,OFT2003-105,OPE2003-262,LQE2003-199
巻番号(vol) vol.103
号番号(no) 615
ページ範囲 pp.-
ページ数 4
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