| 講演名 | 2019-01-17 光導波路のパッシベーションのためのゾルゲルSiO2層表面の改善検討 小川 慧(九大), アマッド シャハリン イドリス(九大), 韓 瑜(九大), 姜 海松(九大), 浜本 貴一(九大), |
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| 抄録(和) | ゾルゲル法で成膜するSiO2膜の光導波路のパッシベーションを検討している。イオン注入や電極取り付けに必要なウェットエッチングが困難であるという問題がこれまでにあった。本論文では、ゾルゲルSiO2膜の表面にポリマー層が生成されていることが原因と考え検討を行った。その結果、O2プラズマアッシングによってポリマー層を取り除き、ウェットエッチングが可能になることを確認した。さらに700 ℃の固化温度において1,800 nm/minのウェットエッチングレートが確認され、加えてこのSiO2膜が10^11 Ω/cm以上の非常に高いシート抵抗値を有していることも確認したので報告する。 |
| 抄録(英) | For exploiting sol-gel SiO2 for waveguide device passivation, plasma-ashing, in addition to 700 ℃ annealing, is proposed to improve surface condition of sol-gel SiO2. Regular wet etching of SiO2 layer on Si with ratio of 1,800 nm/min and sufficient electrical insulation (>1011 Ω/cm) toward proper current induced refractive index change have been successfully confirmed. |
| キーワード(和) | シリコンフォトニクス / SiO2 / ゾルゲル法 / パッシベーション / 光導波路 |
| キーワード(英) | Silicon photonics / SiO2 / Sol-Gel method / Passivation / Optical waveguides |
| 資料番号 | PN2018-53,EMT2018-87,OPE2018-162,LQE2018-172,EST2018-100,MWP2018-71 |
| 発行日 | 2019-01-10 (PN, EMT, OPE, LQE, EST, MWP) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | PN / EMT / OPE / EST / MWP / LQE / IEE-EMT |
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| 開催期間 | 2019/1/17(から2日開催) |
| 開催地（和） | 大阪大学中之島センター |
| 開催地（英） | Osaka University Nakanoshima Center |
| テーマ（和） | フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバーとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、マイクロ波・ミリ波フォトニクス、及び一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 長谷川 浩(名大) / 廣瀬 明(東大) / 佐藤 功紀(古河電工) / 平田 晃正(名工大) / 川西 哲也(早大) / 浜本 貴一(九大) / 後藤 啓次(防衛大) |
| 委員長氏名（英） | Hiroshi Hasegawa(Nagoya Univ.) / Akira Hirose(Univ. of Tokyo) / Kouki Sato(Furukawa Electric Industries) / Akimasa Hirata(Nagoya Inst. of Tech.) / Tetsuya Kawanishi(Waseda Univ.) / Kiichi Hamamoto(Kyusyu Univ.) / Keiji Goto(National Defense Academy) |
| 副委員長氏名（和） | 大越 春喜(古河電工) / 釣谷 剛宏(KDDI総合研究所) / 古川 英昭(NICT) / 平山 浩一(北見工大) / 高橋 浩(上智大) / 大貫 進一郎(日大) / 君島 正幸(アドバンテスト研) / 柴山 純(法政大) / 吉本 直人(千歳科技大) / 有賀 博(三菱電機) |
| 副委員長氏名（英） | Haruki Ogoshi(Furukawa Electric) / Takehiro Tsuritani(KDDI Research) / Hideaki Furukawa(NICT) / Koichi Hirayama(Kitami Inst. of Tech.) / Hiroshi Takahashi(Sophia Univ.) / Shinichiro Ohnuki(Nihon Univ.) / Masayuki Kimishima(Advantest) / Jun Shibayama(Hosei Univ.) / Naoto Yoshimoto(Chitose Inst. of Science and Tech.) / Hiroshi Aruga(Mitsubishi Electric) |
| 幹事氏名（和） | 廣田 悠介(NICT) / 橘 拓至(福井大) / 中川 雅弘(NTT) / 黒木 啓之(都立産技高専) / 渡辺 仰基(福岡工大) / 種村 拓夫(東大) / 山本 直克(NICT) / 江口 真史(千歳科技大) / 園田 潤(仙台高専) / 菅野 敦史(NICT) / 枚田 明彦(千葉工大) / 八木 英樹(住友電工) / 川北 泰雅(古河電工) / 川口 秀樹(室蘭工大) / 西岡 泰弘(三菱電機) / 阪本 卓也(兵庫県立大) |
| 幹事氏名（英） | Yusuke Hirota(NICT) / Takuji Tachibana(Univ. of Fukui) / Masahiro Nakagawa(NTT) / Takashi Kuroki(Tokyo Metro. Coll. of Tech) / Koki Watanabe(Fukuoka Inst.of Tech.) / Takuo Tanemura(Univ. of Tokyo) / Naokatsu Yamamoto(NICT) / Masashi Eguchi(CIST) / Jun Sonoda(National Inst. of Tech.,Sendai College) / Atsushi Kanno(NICT) / Akihiko Hirata(Chiba Inst. of Tech.) / Hideki Yagi(SEI) / Yasumasa Kawakita(Furukawa Electric Industries) / Hideki Kawaguchi(Muroran IT) / Yasuhiro Nishioka(Mitsubishi Electric) / Takuya Sakamoto(Univ. of Hyogo) |
| 幹事補佐氏名（和） | 鈴木 恵治郎(産総研) / 杉坂 純一郎(北見工大) / 庄司 雄哉(東京工業大学) / 妹尾 和則(NTT) / 伊藤 孝弘(名工大) / 藤田 和広(富士通) / 池田 研介(電中研) / 西村 公佐(KDDI総合研究所) / 永井 正也(阪大) / 中 良弘(九州保健福祉大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Keijiro Suzuki(AIST) / Junichiro Sugisaka(Kitami Inst. of Tech.) / Yuya Shoji(Tokyo Inst. of Tech.) / Kazunori Seno(NTT) / Takahiro Ito(Nagoya Inst. of Tech.) / Kazuhiro Fujita(Fujitsu) / Kensuke Ikeda(CRIEPI) / Kosuke Nishimura(KDDI Research) / Masaya Nagai(Osaka Univ.) / Yoshihiro Naka(Kyushu Univ. of Health and Welfare) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Photonic Network / Technical Committee on Electromagnetic Theory / Technical Committee on OptoElectronics / Technical Committee on Electronics Simulation Technology / Technical Committee on Microwave and Millimeter-wave Photonics / Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics / Technical Meeting on Electromagnetic Theory |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 光導波路のパッシベーションのためのゾルゲルSiO2層表面の改善検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Surface Improvement Investigation of Sol-Gel SiO2 Cladding for Waveguide Device Passivation |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | シリコンフォトニクス / Silicon photonics |
| キーワード(2)（和/英） | SiO2 / SiO2 |
| キーワード(3)（和/英） | ゾルゲル法 / Sol-Gel method |
| キーワード(4)（和/英） | パッシベーション / Passivation |
| キーワード(5)（和/英） | 光導波路 / Optical waveguides |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 小川 慧 / Satoshi Ogawa |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 九州大学(略称：九大) Kyushu University(略称：Kyushu Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | アマッド シャハリン イドリス / Ahmad Syahrin Idris |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 九州大学(略称：九大) Kyushu University(略称：Kyushu Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 韓 瑜 / Yu Han |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 九州大学(略称：九大) Kyushu University(略称：Kyushu Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 姜 海松 / Haisong Jiang |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 九州大学(略称：九大) Kyushu University(略称：Kyushu Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 浜本 貴一 / Kiichi Hamamoto |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 九州大学(略称：九大) Kyushu University(略称：Kyushu Univ.) |
| 発表年月日 | 2019-01-17 |
| 資料番号 | PN2018-53,EMT2018-87,OPE2018-162,LQE2018-172,EST2018-100,MWP2018-71 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | PN-396,EMT-397,OPE-398,LQE-399,EST-400,MWP-401 |
| ページ範囲 | pp.127-130(PN), pp.127-130(EMT), pp.127-130(OPE), pp.127-130(LQE), pp.127-130(EST), pp.127-130(MWP), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2019-01-10 (PN, EMT, OPE, LQE, EST, MWP) |