| 講演名 | 2019-01-17 フォトニック結晶CirDレーザに向けた深掘ドライエッチングに関する研究 曽 理(阪大), 溝口 舜(阪大), 張 秀宇(阪大), 竹内 健斗(阪大), 梶井 博武(阪大), 森藤 正人(阪大), 丸田 章博(阪大), 近藤 正彦(阪大), |
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| 抄録(和) | 本研究では円形共振器(CirD)フォトニック結晶レーザを作製するために，レジストマスクを用いてInAs量子ドットを含むGaAs/AlGaAsエピタキシャル多層膜の深掘ドライエッチングを検討した． エッチングは，Cl2，BCl3およびCH4の混合ガスを用いた誘導結合型プラズマ反応性イオンエッチングによって行った．深い空孔を作製するためにエッチング時間を長くすると，レジストマスクが完全にエッチングされ，表面が損傷した．2回のスピンコートによってエピタキシャル多層膜上にレジスト層を積み重ねて厚膜化することで，表面が損傷することなく深さ1.5μmの空孔の作製が可能になることが分かった． |
| 抄録(英) | In order to fabricate a photonic crystal laser with circular defect (CirD) resonator, we study deep dry etching of GaAs /AlGaAs epitaxial multilayers including InAs quantum dots using a resist mask. The etching is performed by inductively coupled plasma reactive ion etching using a mixture of Cl2，BCl3 and CH4 gases. When etching time is increased to fabricate deep air holes, the resist mask is completely etched and the surface is damaged. Therefore, we stack the resist layers on epi-wafer by twice spin-coating and enable deeper dry etching without damage. As a result, fabrication of air holes with a depth of 1.5μm becomes possible. |
| キーワード(和) | フォトニック結晶 / ドライエッチング / InAs量子ドット / GaAs / AlGaAs |
| キーワード(英) | Photonic crystal / Dry etching / InAs quantum dot / GaAs / AlGaAs |
| 資料番号 | PN2018-35,EMT2018-69,OPE2018-144,LQE2018-154,EST2018-82,MWP2018-53 |
| 発行日 | 2019-01-10 (PN, EMT, OPE, LQE, EST, MWP) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | PN / EMT / OPE / EST / MWP / LQE / IEE-EMT |
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| 開催期間 | 2019/1/17(から2日開催) |
| 開催地（和） | 大阪大学中之島センター |
| 開催地（英） | Osaka University Nakanoshima Center |
| テーマ（和） | フォトニックNW・デバイス、フォトニック結晶、ファイバーとその応用、光集積回路、光導波路素子、光スイッチング、導波路解析、マイクロ波・ミリ波フォトニクス、及び一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 長谷川 浩(名大) / 廣瀬 明(東大) / 佐藤 功紀(古河電工) / 平田 晃正(名工大) / 川西 哲也(早大) / 浜本 貴一(九大) / 後藤 啓次(防衛大) |
| 委員長氏名（英） | Hiroshi Hasegawa(Nagoya Univ.) / Akira Hirose(Univ. of Tokyo) / Kouki Sato(Furukawa Electric Industries) / Akimasa Hirata(Nagoya Inst. of Tech.) / Tetsuya Kawanishi(Waseda Univ.) / Kiichi Hamamoto(Kyusyu Univ.) / Keiji Goto(National Defense Academy) |
| 副委員長氏名（和） | 大越 春喜(古河電工) / 釣谷 剛宏(KDDI総合研究所) / 古川 英昭(NICT) / 平山 浩一(北見工大) / 高橋 浩(上智大) / 大貫 進一郎(日大) / 君島 正幸(アドバンテスト研) / 柴山 純(法政大) / 吉本 直人(千歳科技大) / 有賀 博(三菱電機) |
| 副委員長氏名（英） | Haruki Ogoshi(Furukawa Electric) / Takehiro Tsuritani(KDDI Research) / Hideaki Furukawa(NICT) / Koichi Hirayama(Kitami Inst. of Tech.) / Hiroshi Takahashi(Sophia Univ.) / Shinichiro Ohnuki(Nihon Univ.) / Masayuki Kimishima(Advantest) / Jun Shibayama(Hosei Univ.) / Naoto Yoshimoto(Chitose Inst. of Science and Tech.) / Hiroshi Aruga(Mitsubishi Electric) |
| 幹事氏名（和） | 廣田 悠介(NICT) / 橘 拓至(福井大) / 中川 雅弘(NTT) / 黒木 啓之(都立産技高専) / 渡辺 仰基(福岡工大) / 種村 拓夫(東大) / 山本 直克(NICT) / 江口 真史(千歳科技大) / 園田 潤(仙台高専) / 菅野 敦史(NICT) / 枚田 明彦(千葉工大) / 八木 英樹(住友電工) / 川北 泰雅(古河電工) / 川口 秀樹(室蘭工大) / 西岡 泰弘(三菱電機) / 阪本 卓也(兵庫県立大) |
| 幹事氏名（英） | Yusuke Hirota(NICT) / Takuji Tachibana(Univ. of Fukui) / Masahiro Nakagawa(NTT) / Takashi Kuroki(Tokyo Metro. Coll. of Tech) / Koki Watanabe(Fukuoka Inst.of Tech.) / Takuo Tanemura(Univ. of Tokyo) / Naokatsu Yamamoto(NICT) / Masashi Eguchi(CIST) / Jun Sonoda(National Inst. of Tech.,Sendai College) / Atsushi Kanno(NICT) / Akihiko Hirata(Chiba Inst. of Tech.) / Hideki Yagi(SEI) / Yasumasa Kawakita(Furukawa Electric Industries) / Hideki Kawaguchi(Muroran IT) / Yasuhiro Nishioka(Mitsubishi Electric) / Takuya Sakamoto(Univ. of Hyogo) |
| 幹事補佐氏名（和） | 鈴木 恵治郎(産総研) / 杉坂 純一郎(北見工大) / 庄司 雄哉(東京工業大学) / 妹尾 和則(NTT) / 伊藤 孝弘(名工大) / 藤田 和広(富士通) / 池田 研介(電中研) / 西村 公佐(KDDI総合研究所) / 永井 正也(阪大) / 中 良弘(九州保健福祉大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Keijiro Suzuki(AIST) / Junichiro Sugisaka(Kitami Inst. of Tech.) / Yuya Shoji(Tokyo Inst. of Tech.) / Kazunori Seno(NTT) / Takahiro Ito(Nagoya Inst. of Tech.) / Kazuhiro Fujita(Fujitsu) / Kensuke Ikeda(CRIEPI) / Kosuke Nishimura(KDDI Research) / Masaya Nagai(Osaka Univ.) / Yoshihiro Naka(Kyushu Univ. of Health and Welfare) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Photonic Network / Technical Committee on Electromagnetic Theory / Technical Committee on OptoElectronics / Technical Committee on Electronics Simulation Technology / Technical Committee on Microwave and Millimeter-wave Photonics / Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics / Technical Meeting on Electromagnetic Theory |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | フォトニック結晶CirDレーザに向けた深掘ドライエッチングに関する研究 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | A study of deep dry etching for Photonic Crystal CirD Laser |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | フォトニック結晶 / Photonic crystal |
| キーワード(2)（和/英） | ドライエッチング / Dry etching |
| キーワード(3)（和/英） | InAs量子ドット / InAs quantum dot |
| キーワード(4)（和/英） | GaAs / GaAs |
| キーワード(5)（和/英） | AlGaAs / AlGaAs |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 曽 理 / Li Zeng |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 溝口 舜 / Shun Mizoguchi |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 張 秀宇 / Xiuyu Zhang |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 竹内 健斗 / Kento Takeuchi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 梶井 博武 / Hirotake Kajii |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 森藤 正人 / Masato Morifuji |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 丸田 章博 / Akihiro Maruta |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 第 8 著者 氏名（和/英） | 近藤 正彦 / Masahiko Kondow |
| 第 8 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 発表年月日 | 2019-01-17 |
| 資料番号 | PN2018-35,EMT2018-69,OPE2018-144,LQE2018-154,EST2018-82,MWP2018-53 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | PN-396,EMT-397,OPE-398,LQE-399,EST-400,MWP-401 |
| ページ範囲 | pp.23-26(PN), pp.23-26(EMT), pp.23-26(OPE), pp.23-26(LQE), pp.23-26(EST), pp.23-26(MWP), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2019-01-10 (PN, EMT, OPE, LQE, EST, MWP) |