講演名 2018-12-25
酸素雰囲気中で作製したAlOx/GeOx/a-Geスタック構造に対する原子状水素アニールの効果
大貫 智史(兵庫県立大), 部家 彰(兵庫県立大), 松尾 直人(兵庫県立大),
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抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 EID2018-6,SDM2018-79
発行日 2018-12-18 (EID, SDM)

研究会情報
研究会 EID / SDM / ITE-IDY
開催期間 2018/12/25(から1日開催)
開催地(和) 龍谷大学 響都ホール 校友会館
開催地(英)
テーマ(和) シリコン関連材料の作製と評価およびディスプレイ技術
テーマ(英)
委員長氏名(和) 小南 裕子(静岡大) / 品田 高宏(東北大)
委員長氏名(英) Yuko Kominami(Shizuoka Univ.) / Takahiro Shinada(Tohoku Univ.)
副委員長氏名(和) 木村 睦(龍谷大) / 志賀 智一(電通大) / 山口 留美子(秋田大) / 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ)
副委員長氏名(英) Mutsumi Kimura(Ryukoku Univ.) / Tomokazu Shiga(Univ. of Electro-Comm.) / Rumiko Yamaguchi(Akita Univ.) / Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic)
幹事氏名(和) 伊達 宗和(NTT) / 山口 雅浩(東工大) / 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー)
幹事氏名(英) Munekazu Date(NTT) / Masahiro Yamaguchi(Tokyo Inst. of Tech.) / Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY)
幹事補佐氏名(和) 新田 博幸(ジャパンディスプレイ) / 中田 充(NHK) / 野中 亮助(東芝) / 奥野 武志(ファーウェイ) / 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大)
幹事補佐氏名(英) Hiroyuki Nitta(Japan Display) / Mitsuru Nakata(NHK) / Ryosuke Nonaka(Toshiba) / Takeshi Okuno(Huawei) / Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Electronic Information Displays / Technical Committee on Silicon Device and Materials / Technical Group on Information Display
本文の言語 JPN
タイトル(和) 酸素雰囲気中で作製したAlOx/GeOx/a-Geスタック構造に対する原子状水素アニールの効果
サブタイトル(和)
タイトル(英) Effect of atomic hydrogen annealing on AlOx/GeOx/a-Ge stack structure fabricated in O2 ambient
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 大貫 智史 / Tomofumi Onuki
第 1 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学(略称:兵庫県立大)
University of Hyogo(略称:Univ. Hyogo)
第 2 著者 氏名(和/英) 部家 彰 / Akira Heya
第 2 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学(略称:兵庫県立大)
University of Hyogo(略称:Univ. Hyogo)
第 3 著者 氏名(和/英) 松尾 直人 / Naoto Matsuo
第 3 著者 所属(和/英) 兵庫県立大学(略称:兵庫県立大)
University of Hyogo(略称:Univ. Hyogo)
発表年月日 2018-12-25
資料番号 EID2018-6,SDM2018-79
巻番号(vol) vol.118
号番号(no) EID-379,SDM-380
ページ範囲 pp.21-24(EID), pp.21-24(SDM),
ページ数 4
発行日 2018-12-18 (EID, SDM)