| 講演名 | 2018-12-06 光学デバイスへのRASの適用 田中 康仁(シンクロン/電通大), 税所 慎一郎(シンクロン), Gabriel Delgado Fuentes(電通大), 霞 朋樹(電通大), 一色 秀夫(電通大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | シリコンフォトニクスなどの光学デバイスに、金属不完全化合物による成膜プロセスとラジカル源による完全反応プロセスを繰り返すRAS(Rasical Assisted Suputtering)を適用する。これまでRASは量産機のみであったが、本研究で実験用RASであるRAS for Labを開発した。 |
| 抄録(英) | RAS (Rasical Assisted Suputtering) is applied to optical devices such as silicon photonics, which repeats alternately the metal imperfect compound process and the complete reaction process by radical source. RAS has been used for mass production until now, but in this research we developed RAS for research. |
| キーワード(和) | RAS (Radical Assisted Sputtering) / シリコンフォトニクス |
| キーワード(英) | RAS (Radical Assisted Sputtering) / Silicon photonics |
| 資料番号 | OPE2018-124,LQE2018-134,SIPH2018-40 |
| 発行日 | 2018-11-29 (OPE, LQE) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | LQE / OPE |
|---|---|
| 開催期間 | 2018/12/6(から2日開催) |
| 開催地（和） | 慶應義塾大学 |
| 開催地（英） | Keio University |
| テーマ（和） | Photonic Device Workshop (半導体レーザ関連技術, パッシブデバイス技術, シリコンフォトニクス) |
| テーマ（英） | Photonic Device Workshop |
| 委員長氏名（和） | 浜本 貴一(九大) / 佐藤 功紀(古河電工) |
| 委員長氏名（英） | Kiichi Hamamoto(Kyusyu Univ.) / Kouki Sato(Furukawa Electric Industries) |
| 副委員長氏名（和） | 有賀 博(三菱電機) / 高橋 浩(上智大) |
| 副委員長氏名（英） | Hiroshi Aruga(Mitsubishi Electric) / Hiroshi Takahashi(Sophia Univ.) |
| 幹事氏名（和） | 八木 英樹(住友電工) / 川北 泰雅(古河電工) / 種村 拓夫(東大) / 山本 直克(NICT) |
| 幹事氏名（英） | Hideki Yagi(SEI) / Yasumasa Kawakita(Furukawa Electric Industries) / Takuo Tanemura(Univ. of Tokyo) / Naokatsu Yamamoto(NICT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 永井 正也(阪大) / 庄司 雄哉(東京工業大学) / 妹尾 和則(NTT) |
| 幹事補佐氏名（英） | Masaya Nagai(Osaka Univ.) / Yuya Shoji(Tokyo Inst. of Tech.) / Kazunori Seno(NTT) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics / Technical Committee on OptoElectronics |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 光学デバイスへのRASの適用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Radical Assisted Sputtering optical application |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | RAS (Radical Assisted Sputtering) / RAS (Radical Assisted Sputtering) |
| キーワード(2)（和/英） | シリコンフォトニクス / Silicon photonics |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 田中 康仁 / Yasuhito Tanaka |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 株式会社シンクロン/電気通信大学(略称：シンクロン/電通大) Shincron Co., Ltd/The University of Electro-Communications(略称：Shincron/UEC) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 税所 慎一郎 / Shinichiro Saisho |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 株式会社シンクロン(略称：シンクロン) Shincron Co., Ltd(略称：Shincron) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | Gabriel Delgado Fuentes / Gabriel Delgado Fuentes |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 電気通信大学(略称：電通大) The University of Electro-Communications(略称：UEC) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 霞 朋樹 / Tomoki Kasumi |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 電気通信大学(略称：電通大) The University of Electro-Communications(略称：UEC) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 一色 秀夫 / Hideo Isshiki |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 電気通信大学(略称：電通大) The University of Electro-Communications(略称：UEC) |
| 発表年月日 | 2018-12-06 |
| 資料番号 | OPE2018-124,LQE2018-134,SIPH2018-40 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | OPE-348,LQE-349,SIPH- |
| ページ範囲 | pp.135-138(OPE), pp.135-138(LQE), pp.135-138(SIPH), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-11-29 (OPE, LQE) |