| 講演名 | 2018-11-01 スパッタ法によるZnとAZOによる二層膜の検討 清水 英彦(新潟大), 岩野 春男(新潟大), 川上 貴浩(新潟大), 福嶋 康夫(新潟大), 永田 向太郎(新潟大), 坪井 望(新潟大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | Ⅲ族元素をドープしたZnOの薄膜は，低抵抗の膜となることから，ITO薄膜に代わる透明導電膜用材料として注目されている。そこで本研究室ではこれまで，ZnOに数wt.%のAlを添加したAZO焼結体ターゲットを用い，スパッタ法により，AZO薄膜の検討を行ってきた。しかし，8×10-4Ω・cmより小さい抵抗率のAZO薄膜を得ることができなかった。そこで本検討では，DC放電によるマグネトロンスパッタ法を用いて，基板上にZn膜を堆積し，その上にAZO薄膜を堆積する方法にて，AZO膜にZnを取り込ませる方法にて，AZO薄膜の抵抗率の低下の検討を行った。その結果，Zn膜を堆積した後，基板温度を室温から上昇させたときに，基板からZn膜のほとんどが剥離してしまい，AZO膜にZnを取り込ませることは困難であると考えられ，この方法では，膜の抵抗率を低下させることができないことが分かった。 |
| 抄録(英) | In order to preparation of Zn doped AZO film, deposition of AZO films on Zn films were attempted by dc magnetron sputtering method. As a result, when the substrate temperature was raised from the room temperature after Zn film was deposited on the glass substrate, a Zn film detached from a glass substrate. For this reason, it was difficulty that Zn doped AZO film was prepared by deposition of AZO films on Zn films. |
| キーワード(和) | AZO / 亜鉛 / 酸素 / マグネトロンスパッタ法 |
| キーワード(英) | AZO / Zinc / Oxygen / Magnetron Sputtering |
| 資料番号 | CPM2018-45 |
| 発行日 | 2018-10-25 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM / IEE-MAG |
|---|---|
| 開催期間 | 2018/11/1(から2日開催) |
| 開催地（和） | まちなかキャンパス長岡 |
| 開催地（英） | Machinaka campus Nagaoka |
| テーマ（和） | 機能性材料(半導体、磁性体、誘電体、透明導電体・半導体、等)薄膜プロセス/材料/デバイス，一般 |
| テーマ（英） | Functional materials (semiconductors, magnetic materials, dielectric materials, transparent conductors, semiconductors, etc.) Thin film processes / materials / devices, etc. |
| 委員長氏名（和） | 廣瀬 文彦(山形大) / 山口 正洋(東北大) |
| 委員長氏名（英） | Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) / Masahiro Yamaguchi(Tohoku Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 武山 真弓(北見工大) / 小原 学(明治大) / 山田 啓壽(東芝) |
| 副委員長氏名（英） | Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) / Gaku Ohara(Meiji Univ.) / Keiji Yamada(Toshiba) |
| 幹事氏名（和） | 中村 雄一(豊橋技科大) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ) |
| 幹事氏名（英） | Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Yuichi Akage(NTT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 木村 康男(東京工科大) / 中澤 日出樹(弘前大) / 寺迫 智昭(愛媛大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials / Technical Meeting on Magnetics |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | スパッタ法によるZnとAZOによる二層膜の検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Consideration of bilayer film with Zn and AZO deposited by sputtering method |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | AZO / AZO |
| キーワード(2)（和/英） | 亜鉛 / Zinc |
| キーワード(3)（和/英） | 酸素 / Oxygen |
| キーワード(4)（和/英） | マグネトロンスパッタ法 / Magnetron Sputtering |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 清水 英彦 / Hidehiko Shimizu |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 岩野 春男 / Haruo Iwano |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 川上 貴浩 / Takahiro Kawakami |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 福嶋 康夫 / Yasuo Fukushima |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 永田 向太郎 / Koutaro Nagata |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 坪井 望 / Nozomu Tsuboi |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 新潟大学(略称：新潟大) Niigata University(略称：Niigata Univ.) |
| 発表年月日 | 2018-11-01 |
| 資料番号 | CPM2018-45 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | CPM-276 |
| ページ範囲 | pp.21-24(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-10-25 (CPM) |