| 講演名 | 2018-11-29 ALD法を用いたフレキシブルフィルム上へのゼオライト薄膜の試作とイオン吸着特性評価 森 義晴(山形大), 野口 雄祐(山形大), 鹿又 健作(山形大), 三浦 正範(山形大), 有馬 ボシール アハンマド(山形大), 久保田 繁(山形大), 廣瀬 文彦(山形大), |
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| 抄録(和) | 近年ゼオライトは薄膜化により新分野への応用研究進んでいる。一般にゼオライト薄膜の成膜は水熱合成法が用いられる。我々はTris[dimethylamino]silane (TDMAS)、Trimethylaluminium (TMA)の二つの原料ガスとプラズマ励起加湿Arを用いて室温ALD法による成膜を確立した。本手法によりフレキシブルフィルムへのゼオライト薄膜の成膜を行い、アルミナシリカの特性を実証した。本結果により、ゼオライトをイオンセンサーやバイオセンサーといった電子デバイスへの応用の可能性を大きく広げた。更に、２種類の原料ガスを用いた室温原子層堆積を多重内部反射赤外吸収分光法によって評価し、その反応機構を調査した。 |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | 原子層堆積法 / ゼオライト / アルミナ / シリカ / プラズマ励起加湿アルゴン |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | ED2018-38,CPM2018-72,LQE2018-92 |
| 発行日 | 2018-11-22 (ED, CPM, LQE) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED / LQE / CPM |
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| 開催期間 | 2018/11/29(から2日開催) |
| 開催地（和） | 名古屋工業大学 |
| 開催地（英） | Nagoya Inst. tech. |
| テーマ（和） | 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ（英） | Nitride Semiconductor Devices, Materials, Related Technologies |
| 委員長氏名（和） | 津田 邦男(東芝インフラシステムズ) / 浜本 貴一(九大) / 廣瀬 文彦(山形大) |
| 委員長氏名（英） | Kunio Tsuda(Toshiba) / Kiichi Hamamoto(Kyusyu Univ.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 須原 理彦(首都大) / 有賀 博(三菱電機) / 武山 真弓(北見工大) |
| 副委員長氏名（英） | Michihiko Suhara(TMU) / Hiroshi Aruga(Mitsubishi Electric) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 東脇 正高(NICT) / 大石 敏之(佐賀大) / 八木 英樹(住友電工) / 川北 泰雅(古河電工) / 中村 雄一(豊橋技科大) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ) |
| 幹事氏名（英） | Masataka Higashiwaki(NICT) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Hideki Yagi(SEI) / Yasumasa Kawakita(Furukawa Electric Industries) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Yuichi Akage(NTT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 岩田 達哉(豊橋技科大) / 小谷 淳二(富士通研) / 永井 正也(阪大) / 木村 康男(東京工科大) / 中澤 日出樹(弘前大) / 寺迫 智昭(愛媛大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Tatsuya Iwata(TUT) / Junji Kotani(Fjitsu Lab.) / Masaya Nagai(Osaka Univ.) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Devices / Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics / Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ALD法を用いたフレキシブルフィルム上へのゼオライト薄膜の試作とイオン吸着特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Development and ion absorption characterization of the zeolite films on flexible film using atomic layer deposition |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | 原子層堆積法 |
| キーワード(2)（和/英） | ゼオライト |
| キーワード(3)（和/英） | アルミナ |
| キーワード(4)（和/英） | シリカ |
| キーワード(5)（和/英） | プラズマ励起加湿アルゴン |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 森 義晴 / Yoshiharu Mori |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 野口 雄祐 / Yusuke Noguti |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 鹿又 健作 / Kensaku Kanomata |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 三浦 正範 / Masanori Miura |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 有馬 ボシール アハンマド / Bashir A. Arima |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 久保田 繁 / Shigeru Kubota |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 7 著者 氏名（和/英） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose |
| 第 7 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 発表年月日 | 2018-11-29 |
| 資料番号 | ED2018-38,CPM2018-72,LQE2018-92 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | ED-330,CPM-331,LQE-332 |
| ページ範囲 | pp.27-30(ED), pp.27-30(CPM), pp.27-30(LQE), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-11-22 (ED, CPM, LQE) |