| 講演名 | 2018-11-29 ナノインプリントによるモスアイ構造作製法に関する評価実験 平賀 健太(山形大), 久保田 繁(山形大), 鹿又 健作(山形大), 有馬 ボシールアハンマド(山形大), 廣瀬 文彦(山形大), |
|---|---|
| PDFダウンロードページ |  PDFダウンロードページへ |
| 抄録(和) | 近年、ナノインプリントはナノメートルからマイクロメートルオーダーまでの微細なパターンを容易に複製できるため、注目されている技術である。光ナノインプリントは圧力プロセスが低く、昇温・冷却の熱サイクルがないことからスループットが高く、量産技術として期待されている。光ナノインプリントは微細な構造を有するモールド(型)を転写する際に、加圧しながらUV光を照射し、UV硬化樹脂を硬化させて微細な構造を複製する技術である。本研究では、光ナノインプリントによるモスアイ構造の作製方法を検討し、反射防止膜として一般的である周期350 nm、高さ320 nmのモスアイ構造を用い、それを光ナノインプリントで作製する。また、モールドを複数回転写すると劣化が進むが、その劣化がどこまで許容されるのかを調査した。 |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | ナノインプリント / 反射防止膜 / モスアイ構造 |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | ED2018-37,CPM2018-71,LQE2018-91 |
| 発行日 | 2018-11-22 (ED, CPM, LQE) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED / LQE / CPM |
|---|---|
| 開催期間 | 2018/11/29(から2日開催) |
| 開催地（和） | 名古屋工業大学 |
| 開催地（英） | Nagoya Inst. tech. |
| テーマ（和） | 窒化物半導体光・電子デバイス、材料、関連技術、及び一般 |
| テーマ（英） | Nitride Semiconductor Devices, Materials, Related Technologies |
| 委員長氏名（和） | 津田 邦男(東芝インフラシステムズ) / 浜本 貴一(九大) / 廣瀬 文彦(山形大) |
| 委員長氏名（英） | Kunio Tsuda(Toshiba) / Kiichi Hamamoto(Kyusyu Univ.) / Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 須原 理彦(首都大) / 有賀 博(三菱電機) / 武山 真弓(北見工大) |
| 副委員長氏名（英） | Michihiko Suhara(TMU) / Hiroshi Aruga(Mitsubishi Electric) / Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 東脇 正高(NICT) / 大石 敏之(佐賀大) / 八木 英樹(住友電工) / 川北 泰雅(古河電工) / 中村 雄一(豊橋技科大) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ) |
| 幹事氏名（英） | Masataka Higashiwaki(NICT) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Hideki Yagi(SEI) / Yasumasa Kawakita(Furukawa Electric Industries) / Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Yuichi Akage(NTT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 岩田 達哉(豊橋技科大) / 小谷 淳二(富士通研) / 永井 正也(阪大) / 木村 康男(東京工科大) / 中澤 日出樹(弘前大) / 寺迫 智昭(愛媛大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Tatsuya Iwata(TUT) / Junji Kotani(Fjitsu Lab.) / Masaya Nagai(Osaka Univ.) / Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Devices / Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics / Technical Committee on Component Parts and Materials |
|---|---|
| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ナノインプリントによるモスアイ構造作製法に関する評価実験 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Experiment and evaluation for the methods of nanoimprinting moth eye structure |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ナノインプリント |
| キーワード(2)（和/英） | 反射防止膜 |
| キーワード(3)（和/英） | モスアイ構造 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 平賀 健太 / Kenta Hiraga |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 久保田 繁 / Shigeru Kubota |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 鹿又 健作 / Kensaku Kanomata |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 有馬 ボシールアハンマド / Bashir Ahmmad |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 発表年月日 | 2018-11-29 |
| 資料番号 | ED2018-37,CPM2018-71,LQE2018-91 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | ED-330,CPM-331,LQE-332 |
| ページ範囲 | pp.21-26(ED), pp.21-26(CPM), pp.21-26(LQE), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2018-11-22 (ED, CPM, LQE) |