| 講演名 | 2018-10-17 スパッタリングプロセスを用いた新しい圧電材料とセンサへの応用 今泉 文伸(小山高専), 柳田 幸祐(*), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | SDM2018-53 |
| 発行日 | 2018-10-10 (SDM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SDM |
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| 開催期間 | 2018/10/17(から2日開催) |
| 開催地（和） | 東北大学未来情報産業研究館５Ｆ |
| 開催地（英） | Niche, Tohoku Univ. |
| テーマ（和） | プロセス科学と新プロセス技術 |
| テーマ（英） | Process Science and New Process Technology |
| 委員長氏名（和） | 品田 高宏(東北大) |
| 委員長氏名（英） | Takahiro Shinada(Tohoku Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 平野 博茂(パナソニック・タワージャズ) |
| 副委員長氏名（英） | Hiroshige Hirano(TowerJazz Panasonic) |
| 幹事氏名（和） | 池田 浩也(静岡大) / 諸岡 哲(東芝メモリー) |
| 幹事氏名（英） | Hiroya Ikeda(Shizuoka Univ.) / Tetsu Morooka(TOSHIBA MEMORY) |
| 幹事補佐氏名（和） | 森 貴洋(産総研) / 小林 伸彰(日大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Takahiro Mori(AIST) / Nobuaki Kobayashi(Nihon Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Silicon Device and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | スパッタリングプロセスを用いた新しい圧電材料とセンサへの応用 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | New piezoelectric materials by RF sputtering process and applications to sensor |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 今泉 文伸 / Fuminobu Imaizumi |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 小山工業高等専門学校(略称：小山高専) National Institute of Technology, Oyama College(略称：NIT, Oyama College) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 柳田 幸祐 / kousuke Yanagida |
| 第 2 著者 所属（和/英） | *(略称：*) *(略称：*) |
| 発表年月日 | 2018-10-17 |
| 資料番号 | SDM2018-53 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | SDM-241 |
| ページ範囲 | pp.7-10(SDM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-10-10 (SDM) |