講演名 2018-10-24
ボルケーノ構造スピント型エミッタアレイの動作チップ数の向上
新谷 英世(名城大), 村田 英一(名城大), 池田 貴大(名城大), 六田 英治(名城大), 下山 宏(名城大), 長尾 昌善(産総研), 村上 勝久(産総研),
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抄録(和) これまで我々は、フィールドエミッタアレイ(FEA)の動作状態のリアルタイム観察が可能なマルチエミッタ評価用SEEM/PEEM装置の開発を行い、本装置によるFEAのSEEM / FEEM像およびPEEM / FEEM像の同時観察および個々のチップの放出電流測定について報告してきた。今回、ボルケーノ構造スピント型エミッタにおいて、比較的高めの電圧によるエージング処理を実施することで、FEAの動作チップ数を大幅に改善できることを見出し、また、エージング電圧との関係を定量的にも確認することができたので、その旨を報告する。
抄録(英) We have developed an electron optical instrument for evaluation of multi emitters. The instrument enables us to obtain quantitative knowledge as to the percentage of actually active tips out of the whole tips and to evaluate a stability of the emission current from each individual active tip. In this study, volcano-structured Spindt-type field emitter arrays are observed in PEEM and FEEM modes using the instrument. Also, an emission current measurement from each individual active tip in the field emitter arrays was performed. As a result, we have found that a number of active tips in the field emitter arrays can be significantly improved by using a relatively high voltage aging process.
キーワード(和) フィールドエミッタアレイ / エージング / PEEM / FEEM / 放出電流 / 動作チップ
キーワード(英) field emitter array / aging process / PEEM / FEEM / working ratio
資料番号 ED2018-26
発行日 2018-10-17 (ED)

研究会情報
研究会 ED
開催期間 2018/10/24(から1日開催)
開催地(和) 機械振興会館 地下3階1号室
開催地(英)
テーマ(和) 電子管と真空ナノエレクトロニクス及びその評価技術
テーマ(英)
委員長氏名(和) 津田 邦男(東芝インフラシステムズ)
委員長氏名(英) Kunio Tsuda(Toshiba)
副委員長氏名(和) 須原 理彦(首都大)
副委員長氏名(英) Michihiko Suhara(TMU)
幹事氏名(和) 東脇 正高(NICT) / 大石 敏之(佐賀大)
幹事氏名(英) Masataka Higashiwaki(NICT) / Toshiyuki Oishi(Saga Univ.)
幹事補佐氏名(和) 岩田 達哉(豊橋技科大) / 小谷 淳二(富士通研)
幹事補佐氏名(英) Tatsuya Iwata(TUT) / Junji Kotani(Fjitsu Lab.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Electron Devices
本文の言語 JPN
タイトル(和) ボルケーノ構造スピント型エミッタアレイの動作チップ数の向上
サブタイトル(和)
タイトル(英) Improvements of a number of active tips and emission measurements from individual tips in volcano-structured Spindt-type field emitter arrays
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英) フィールドエミッタアレイ / field emitter array
キーワード(2)(和/英) エージング / aging process
キーワード(3)(和/英) PEEM / PEEM
キーワード(4)(和/英) FEEM / FEEM
キーワード(5)(和/英) 放出電流 / working ratio
キーワード(6)(和/英) 動作チップ
第 1 著者 氏名(和/英) 新谷 英世 / Hidetoshi Shinya
第 1 著者 所属(和/英) 名城大学(略称:名城大)
Meijo University(略称:Meijo Univ.)
第 2 著者 氏名(和/英) 村田 英一 / Hidekazu Murata
第 2 著者 所属(和/英) 名城大学(略称:名城大)
Meijo University(略称:Meijo Univ.)
第 3 著者 氏名(和/英) 池田 貴大 / Takahiro Ikeda
第 3 著者 所属(和/英) 名城大学(略称:名城大)
Meijo University(略称:Meijo Univ.)
第 4 著者 氏名(和/英) 六田 英治 / Eiji Rokuta
第 4 著者 所属(和/英) 名城大学(略称:名城大)
Meijo University(略称:Meijo Univ.)
第 5 著者 氏名(和/英) 下山 宏 / Hiroshi Shimoyama
第 5 著者 所属(和/英) 名城大学(略称:名城大)
Meijo University(略称:Meijo Univ.)
第 6 著者 氏名(和/英) 長尾 昌善 / Masayoshi Nagao
第 6 著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所(略称:産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(略称:AIST)
第 7 著者 氏名(和/英) 村上 勝久 / Katsuhisa Murakami
第 7 著者 所属(和/英) 産業技術総合研究所(略称:産総研)
National Institute of Advanced Industrial Science and Technology(略称:AIST)
発表年月日 2018-10-24
資料番号 ED2018-26
巻番号(vol) vol.118
号番号(no) ED-263
ページ範囲 pp.1-4(ED),
ページ数 4
発行日 2018-10-17 (ED)