| 講演名 | 2018-08-10 ウェットプロセスによる裏面アルミナパッシベーション膜の評価 渡邊 良祐(弘前大), 小山 翼(成蹊大), 齋藤 洋司(成蹊大), |
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| 抄録(和) | シリコン太陽電池の表面パッシベーション膜として，近年アルミナが注目されている．アルミナは負の固定電荷をもつため，表面の電子を反発する電界効果パッシベーションが期待できる．我々はアルミナをゾルゲルウェットプロセスにて太陽電池の裏面に形成し，作製した太陽電池の特性評価を行った．また，シリコン太陽電池で一般的に用いられているSiO2パッシベーション膜についてもゾルゲル法にて作製し，アルミナパッシベーション膜を形成した場合との太陽電池特性の比較を行った． |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | ゾルゲル / パッシベーション膜 / シリコン太陽電池 |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | CPM2018-17 |
| 発行日 | 2018-08-02 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2018/8/9(から2日開催) |
| 開催地（和） | 弘前大学文京町地区キャンパス |
| 開催地（英） | Hirosaki Univ. |
| テーマ（和） | 電子部品・材料、一般 |
| テーマ（英） | Component Parts and Materials, etc. |
| 委員長氏名（和） | 廣瀬 文彦(山形大) |
| 委員長氏名（英） | Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 武山 真弓(北見工大) |
| 副委員長氏名（英） | Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 中村 雄一(豊橋技科大) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ) |
| 幹事氏名（英） | Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Yuichi Akage(NTT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 木村 康男(東京工科大) / 中澤 日出樹(弘前大) / 寺迫 智昭(愛媛大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | ウェットプロセスによる裏面アルミナパッシベーション膜の評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Evaluation of rear surface passivation layer deposited by wet process |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | ゾルゲル |
| キーワード(2)（和/英） | パッシベーション膜 |
| キーワード(3)（和/英） | シリコン太陽電池 |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 渡邊 良祐 / Ryosuke Watanabe |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 弘前大学(略称：弘前大) Hirosaki University(略称：Hirosaki Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 小山 翼 / Tsubasa Koyama |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 成蹊大学(略称：成蹊大) Seikei University(略称：Seikei Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 齋藤 洋司 / Yoji Saito |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 成蹊大学(略称：成蹊大) Seikei University(略称：Seikei Univ.) |
| 発表年月日 | 2018-08-10 |
| 資料番号 | CPM2018-17 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | CPM-179 |
| ページ範囲 | pp.43-46(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-08-02 (CPM) |