| 講演名 | 2018-08-10 低温作製されたZrOxNy膜の特性評価 佐藤 勝(北見工大), 北田 秀樹(北見工大), 武山 真弓(北見工大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | CPM2018-16 |
| 発行日 | 2018-08-02 (CPM) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | CPM |
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| 開催期間 | 2018/8/9(から2日開催) |
| 開催地（和） | 弘前大学文京町地区キャンパス |
| 開催地（英） | Hirosaki Univ. |
| テーマ（和） | 電子部品・材料、一般 |
| テーマ（英） | Component Parts and Materials, etc. |
| 委員長氏名（和） | 廣瀬 文彦(山形大) |
| 委員長氏名（英） | Fumihiko Hirose(Yamagata Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | 武山 真弓(北見工大) |
| 副委員長氏名（英） | Mayumi Takeyama(Kitami Inst. of Tech.) |
| 幹事氏名（和） | 中村 雄一(豊橋技科大) / 赤毛 勇一(NTTデバイスイノベーションセンタ) |
| 幹事氏名（英） | Yuichi Nakamura(Toyohashi Univ. of Tech.) / Yuichi Akage(NTT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 木村 康男(東京工科大) / 中澤 日出樹(弘前大) / 寺迫 智昭(愛媛大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Yasuo Kimura(Tokyo Univ. of Tech.) / Hideki Nakazawa(Hirosaki Univ.) / Tomoaki Terasako(Ehime Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Component Parts and Materials |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 低温作製されたZrOxNy膜の特性評価 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Characterization of ZrOxNy thin films deposited at low temperatures |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 佐藤 勝 / Masaru Sato |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 北見工業大学(略称：北見工大) Kitami Institute of Technology(略称：kitami inst. of tech.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 北田 秀樹 / Hideki Kitada |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 北見工業大学(略称：北見工大) Kitami Institute of Technology(略称：kitami inst. of tech.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 武山 真弓 / Mayumi B. Takeyama |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 北見工業大学(略称：北見工大) Kitami Institute of Technology(略称：kitami inst. of tech.) |
| 発表年月日 | 2018-08-10 |
| 資料番号 | CPM2018-16 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | CPM-179 |
| ページ範囲 | pp.39-42(CPM), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-08-02 (CPM) |