講演名 2018-07-12
Si(100)基板上にMOVPE成長したGaAs層の貫通転位とアンチフェーズドメインの低減
中尾 亮(NTT), 佐藤 具就(NTT), 杉山 弘樹(NTT), 松尾 慎治(NTT),
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 LQE2018-22
発行日 2018-07-05 (LQE)

研究会情報
研究会 LQE
開催期間 2018/7/12(から2日開催)
開催地(和) 北海道大学
開催地(英)
テーマ(和) 受光素子,変調器,レーザ応用,センシング応用
テーマ(英)
委員長氏名(和) 浜本 貴一(九大)
委員長氏名(英) Kiichi Hamamoto(Kyusyu Univ.)
副委員長氏名(和) 有賀 博(三菱電機)
副委員長氏名(英) Hiroshi Aruga(Mitsubishi Electric)
幹事氏名(和) 八木 英樹(住友電工) / 川北 泰雅(古河電工)
幹事氏名(英) Hideki Yagi(SEI) / Yasumasa Kawakita(Furukawa Electric Industries)
幹事補佐氏名(和) 永井 正也(阪大)
幹事補佐氏名(英) Masaya Nagai(Osaka Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Lasers and Quantum Electronics
本文の言語 JPN
タイトル(和) Si(100)基板上にMOVPE成長したGaAs層の貫通転位とアンチフェーズドメインの低減
サブタイトル(和)
タイトル(英) Reduction of threading dislocations and antiphase domains in MOVPE-grown GaAs on Si(100)
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 中尾 亮 / Ryo Nakao
第 1 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社(略称:NTT)
NTT Corporation(略称:NTT)
第 2 著者 氏名(和/英) 佐藤 具就 / Tomonari Sato
第 2 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社(略称:NTT)
NTT Corporation(略称:NTT)
第 3 著者 氏名(和/英) 杉山 弘樹 / Hiroki Sugiyama
第 3 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社(略称:NTT)
NTT Corporation(略称:NTT)
第 4 著者 氏名(和/英) 松尾 慎治 / Shinji Matsuo
第 4 著者 所属(和/英) 日本電信電話株式会社(略称:NTT)
NTT Corporation(略称:NTT)
発表年月日 2018-07-12
資料番号 LQE2018-22
巻番号(vol) vol.118
号番号(no) LQE-129
ページ範囲 pp.9-12(LQE),
ページ数 4
発行日 2018-07-05 (LQE)