| 講演名 | 2018-04-20 プラズマ励起加湿アルゴンを用いた低温イットリア原子層堆積法 齋藤 健太郎(山形大), 鹿又 健作(山形大), 三浦 正範(山形大), 有馬 ボシール アハンマド(山形大), 久保 田繁(山形大), 廣瀬 文彦(山形大), |
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| 抄録(和) | |
| 抄録(英) | |
| キーワード(和) | |
| キーワード(英) | |
| 資料番号 | ED2018-8 |
| 発行日 | 2018-04-12 (ED) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | ED |
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| 開催期間 | 2018/4/19(から2日開催) |
| 開催地（和） | 山形大学 |
| 開催地（英） | |
| テーマ（和） | 有機デバイス、酸化物デバイス、一般 |
| テーマ（英） | |
| 委員長氏名（和） | 津田 邦男(東芝) |
| 委員長氏名（英） | Kunio Tsuda(Toshiba) |
| 副委員長氏名（和） | 須原 理彦(首都大) |
| 副委員長氏名（英） | Michihiko Suhara(TMU) |
| 幹事氏名（和） | 新井 学(新日本無線) / 東脇 正高(NICT) |
| 幹事氏名（英） | Manabu Arai(New JRC) / Masataka Higashiwaki(NICT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 大石 敏之(佐賀大) / 岩田 達哉(豊橋技科大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Tatsuya Iwata(TUT) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Electron Devices |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | プラズマ励起加湿アルゴンを用いた低温イットリア原子層堆積法 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Low temperature atomic layer deposition of yttrium oxide using plasma excited humidified argon |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 齋藤 健太郎 / Kentaro Saito |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 2 著者 氏名（和/英） | 鹿又 健作 / Kensaku Kanomata |
| 第 2 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 3 著者 氏名（和/英） | 三浦 正範 / Masanori Miura |
| 第 3 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 4 著者 氏名（和/英） | 有馬 ボシール アハンマド / Bashir A. Arima |
| 第 4 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 5 著者 氏名（和/英） | 久保 田繁 / Kubota Shigeru |
| 第 5 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 第 6 著者 氏名（和/英） | 廣瀬 文彦 / Fumihiko Hirose |
| 第 6 著者 所属（和/英） | 山形大学(略称：山形大) Yamagata University(略称：Yamagata Univ.) |
| 発表年月日 | 2018-04-20 |
| 資料番号 | ED2018-8 |
| 巻番号（vol） | vol.118 |
| 号番号（no） | ED-9 |
| ページ範囲 | pp.29-32(ED), |
| ページ数 | 4 |
| 発行日 | 2018-04-12 (ED) |