講演名 2018-01-25
絶縁ゲートAlGaN/GaN HEMTにおける電流線形性の向上
金木 奨太(北大), 西口 賢弥(北大), 尾崎 史郎(富士通研), 橋詰 保(北大),
PDFダウンロードページ PDFダウンロードページへ
抄録(和)
抄録(英)
キーワード(和)
キーワード(英)
資料番号 ED2017-95,MW2017-164
発行日 2018-01-18 (ED, MW)

研究会情報
研究会 ED / MW
開催期間 2018/1/25(から2日開催)
開催地(和) 機械振興会館地下3階研修2号室
開催地(英) Kikai-Shinko-Kaikan Bldg.
テーマ(和) 化合物半導体ICおよび超高速・超高周波デバイス/マイクロ波一般
テーマ(英) Compound semiconductor, High speed and High frequency devices/Microwave technologies
委員長氏名(和) 津田 邦男(東芝) / 村口 正弘(東京理科大)
委員長氏名(英) Kunio Tsuda(Toshiba) / Masahiro Muraguchi(TUC)
副委員長氏名(和) 須原 理彦(首都大) / 古神 義則(宇都宮大) / 岡崎 浩司(NTTドコモ) / 田島 賢一(三菱電機)
副委員長氏名(英) Michihiko Suhara(TMU) / Yoshinori Kogami(Utsunomiya Univ.) / Hiroshi Okazaki(NTTdocomo) / Kenichi Tajima(Mitsubishi Electric)
幹事氏名(和) 新井 学(新日本無線) / 東脇 正高(NICT) / 平野 拓一(東工大) / 中村 宝弘(日立)
幹事氏名(英) Manabu Arai(New JRC) / Masataka Higashiwaki(NICT) / Takuichi Hirano(Tokyo Inst. of Tech.) / Takahiro Nakamura(HITACHI)
幹事補佐氏名(和) 大石 敏之(佐賀大) / 岩田 達哉(豊橋技科大) / 小野 哲(電通大) / 本良 瑞樹(東北大)
幹事補佐氏名(英) Toshiyuki Oishi(Saga Univ.) / Tatsuya Iwata(TUT) / Satoshi Ono(Univ. of Electro-Comm.) / Mizuki Motoyoshi(Tohoku Univ.)

講演論文情報詳細
申込み研究会 Technical Committee on Electron Devices / Technical Committee on Microwaves
本文の言語 JPN
タイトル(和) 絶縁ゲートAlGaN/GaN HEMTにおける電流線形性の向上
サブタイトル(和)
タイトル(英) Improvement of Current Linearity in Inslated Gate AlGaN/GaN HEMT
サブタイトル(和)
キーワード(1)(和/英)
第 1 著者 氏名(和/英) 金木 奨太 / Shota Kaneki
第 1 著者 所属(和/英) 北海道大学(略称:北大)
Hokkaido University(略称:Hokkaido Univ.)
第 2 著者 氏名(和/英) 西口 賢弥 / Kenya Nishiguchi
第 2 著者 所属(和/英) 北海道大学(略称:北大)
Hokkaido University(略称:Hokkaido Univ.)
第 3 著者 氏名(和/英) 尾崎 史郎 / Siro Ozaki
第 3 著者 所属(和/英) 株式会社 富士通研究所(略称:富士通研)
Fujitsu Laboratories(略称:Fujitsu Lab.)
第 4 著者 氏名(和/英) 橋詰 保 / Tamotsu Hashizume
第 4 著者 所属(和/英) 北海道大学(略称:北大)
Hokkaido University(略称:Hokkaido Univ.)
発表年月日 2018-01-25
資料番号 ED2017-95,MW2017-164
巻番号(vol) vol.117
号番号(no) ED-412,MW-413
ページ範囲 pp.11-14(ED), pp.11-14(MW),
ページ数 4
発行日 2018-01-18 (ED, MW)