| 講演名 | 2018-01-31 収束イオンビーム加工によるYBCO薄膜の特性変化に関する基礎的検討 宮戸 祐治(阪大), |
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| 抄録(和) | YBCO薄膜を収束イオンビームで加工すると、超伝導特性を局所的に変化させることができることを利用して、Josephson接合を作成する手法が近年、注目されている。本研究では実験において、ヘリウムあるいはネオンイオンの照射によりYBCO薄膜の特性が絶縁体的に変化したり、臨界温度が低下したりすること、さらに照射によって生じたダメージが酸素雰囲気下のアニーリング処理によって回復し、臨界温度が照射前の値の近くまで戻ることを確かめた。これらの実験の結果を解釈するため、モンテカルロ計算によるシミュレーションによって、イオン照射が薄膜内部にどのようにダメージを与えるか調べ、結果を考察した。 |
| 抄録(英) | Recently, the focused ion beam processing of YBCO thin films, leading to the local change of the superconducting characteristics, has attracted the researchers’ attention as a fabrication method of Josephson junctions. In this study, it was confirmed that the irradiation of helium or neon ion beams brought the change of YBCO film characteristics into insulating behavior or the decrease of the critical temperature, and that the critical temperature come back close to the initial value due to the recovery from the irradiation damage after annealing in an oxygen atmosphere. The experiment results were also analyzed by means of a Monte Carlo method, simulating how the incident ion could introduce the damage into the films. |
| キーワード(和) | YBCO薄膜 / 収束イオンビーム / ジョセフソン接合 |
| キーワード(英) | YBCO thin films / focused ion beam / Josephson junction |
| 資料番号 | SCE2017-35 |
| 発行日 | 2018-01-24 (SCE) |
| 研究会情報 | |
| 研究会 | SCE |
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| 開催期間 | 2018/1/31(から1日開催) |
| 開催地（和） | 機械振興会館 |
| 開催地（英） | Kikai-Shinko-Kaikan Bldg. |
| テーマ（和） | SQUID・高周波・計測技術及び応用、一般 |
| テーマ（英） | SQUID, high frequency, sensing technologies and their applications, etc. |
| 委員長氏名（和） | 明連 広昭(埼玉大) |
| 委員長氏名（英） | Hiroaki Myoren(Saitama Univ.) |
| 副委員長氏名（和） | |
| 副委員長氏名（英） | |
| 幹事氏名（和） | 立木 隆(防衛大) / 山下 太郎(NICT) |
| 幹事氏名（英） | Takashi Tachiki(National Defense Academy) / Taro Yamashita(NICT) |
| 幹事補佐氏名（和） | 赤池 宏之(大同大) |
| 幹事補佐氏名（英） | Hiroyuki Akaike(Daido Univ.) |
| 講演論文情報詳細 | |
| 申込み研究会 | Technical Committee on Superconductive Electronics |
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| 本文の言語 | JPN |
| タイトル（和） | 収束イオンビーム加工によるYBCO薄膜の特性変化に関する基礎的検討 |
| サブタイトル（和） | |
| タイトル（英） | Fundamental investigation on characteristic change of YBCO thin films by focused ion beam processing |
| サブタイトル（和） | |
| キーワード(1)（和/英） | YBCO薄膜 / YBCO thin films |
| キーワード(2)（和/英） | 収束イオンビーム / focused ion beam |
| キーワード(3)（和/英） | ジョセフソン接合 / Josephson junction |
| 第 1 著者 氏名（和/英） | 宮戸 祐治 / Yuji Miyato |
| 第 1 著者 所属（和/英） | 大阪大学(略称：阪大) Osaka University(略称：Osaka Univ.) |
| 発表年月日 | 2018-01-31 |
| 資料番号 | SCE2017-35 |
| 巻番号（vol） | vol.117 |
| 号番号（no） | SCE-428 |
| ページ範囲 | pp.21-26(SCE), |
| ページ数 | 6 |
| 発行日 | 2018-01-24 (SCE) |